公开(公告)号：CN113034620A

公开(公告)日：2021-06-25

申请号：CN202110475510.4

申请日：2021-04-29

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  成都京东方光电科技有限公司

发明人： 李楠松 ,  冯星 ,  张永超 ,  王勇 ,  袁洪光 ,  束青 ,  龙宗昌 ,  王仁钦 ,  田坤 ,  王雷 ,  王雨 ,  蒲云肖

IPC分类号： G06T7/80 ,  G06T5/00

摘要： 本发明公开了一种校正方法、校正装置、计算机可读存储介质及计算机设备，其中一实施例的校正方法包括：接收待校正设备输出的检测数据文本，检测数据文本包括多组检测坐标数据，检测坐标数据为待校正设备的采集器件采集的预设样本片的多个样本点的检测坐标值；导入预设样本片的标准数据文本；比对检测数据文本和标准数据文本生成坐标对比文件；根据坐标对比文件获取所述采集器件的器件中心值和光学中心坐标偏差值；根据器件中心值和光学中心坐标偏差值校正待校正设备。本发明提供的校正方法通过比对预设样本点的检测数据文本和标准数据文本生成坐标对比文件，从而能够自动获取采集器件的器件中心值和光学中心坐标偏差值，提高了校正效率和精确性。

公开(公告)号：CN109580632A

公开(公告)日：2019-04-05

申请号：CN201811413017.4

申请日：2018-11-23

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  成都京东方光电科技有限公司

发明人： 冯星 ,  冯鹏 ,  胡岩 ,  袁洪光 ,  张科 ,  张永超 ,  束青 ,  金春凤 ,  韩明昆 ,  刘备 ,  孙晓峰 ,  王勇

IPC分类号： G01N21/88

摘要： 本发明实施例提供了一种缺陷确定方法、装置及存储介质，缺陷确定方法包括：获取待检测样品经过第一工艺后目标区域所对应的第一灰阶值和比较区域所对应的第二灰阶值；获取待检测样品经过第二工艺后目标区域所对应的第三灰阶值和比较区域所对应的第四灰阶值，第二工艺为第一工艺的下一道工艺；根据第一灰阶值、第二灰阶值、第三灰阶值和第四灰阶值，确定目标区域是否为缺陷区域。通过本发明实施例的缺陷确定方法可以去除前层工艺图形对现工艺的待检测样品的灰阶值的影响，使灰阶差值波动范围降低，能够实现在更严格的阈值条件下，将缺陷区域的误判率被控制在可接受范围，从而提高AOI设备准确度和检出率，并能够更加精确地计算缺陷区域大小。

公开(公告)号：CN109580632B

公开(公告)日：2021-03-30

申请号：CN201811413017.4

申请日：2018-11-23

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  成都京东方光电科技有限公司

发明人： 冯星 ,  冯鹏 ,  胡岩 ,  袁洪光 ,  张科 ,  张永超 ,  束青 ,  金春凤 ,  韩明昆 ,  刘备 ,  孙晓峰 ,  王勇

IPC分类号： G01N21/88

摘要： 本发明实施例提供了一种缺陷确定方法、装置及存储介质，缺陷确定方法包括：获取待检测样品经过第一工艺后目标区域所对应的第一灰阶值和比较区域所对应的第二灰阶值；获取待检测样品经过第二工艺后目标区域所对应的第三灰阶值和比较区域所对应的第四灰阶值，第二工艺为第一工艺的下一道工艺；根据第一灰阶值、第二灰阶值、第三灰阶值和第四灰阶值，确定目标区域是否为缺陷区域。通过本发明实施例的缺陷确定方法可以去除前层工艺图形对现工艺的待检测样品的灰阶值的影响，使灰阶差值波动范围降低，能够实现在更严格的阈值条件下，将缺陷区域的误判率被控制在可接受范围，从而提高AOI设备准确度和检出率，并能够更加精确地计算缺陷区域大小。