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公开(公告)号：CN113036065A
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN202110252157.3
申请日：2021-03-08
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本公开提供一种柔性显示基板及其制备方法、显示装置。所述柔性显示基板的制备方法，包括：在刚性基板上形成隔离保护膜层；在所述隔离保护膜层上形成柔性基底；在所述柔性基底上形成功能层；剥离所述刚性基板，形成所述柔性显示基板。本公开所述柔性显示基板及其制备方法、显示装置，在形成柔性基底之前先形成隔离保护膜层，在后续剥离刚性基板后由于隔离保护膜层仍会附着于柔性基底上起到保护作用，无需额外贴附下保护膜，避免因贴附下保护膜导致的贴合异物、贴合气泡、翘曲等工艺不良，同时减少了工艺步骤并降低了成本；同时，隔离保护膜层可以避免功能层蒸镀过程中无机材料残留于刚性基板中导致后续分离异常。
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公开(公告)号：CN107574417A
公开(公告)日：2018-01-12
申请号：CN201710861105.X
申请日：2017-09-21
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： C23C14/34
摘要： 本发明公开了一种溅射系统，包括：溅射腔室；设置于所述溅射腔室内的靶材固定件，所述靶材固定件具有用于将溅射用的气体导入所述溅射腔室内的靶材侧进气孔，所述靶材固定件用于固定靶材；气体供给装置，所述气体供给装置与所述靶材侧进气孔相连通，所述气体供给装置用于供给溅射用的气体。本发明的溅射系统，与现有技术相比，解决了现有的溅射系统因靶材周围的溅射用的气体补充的较慢导致的溅射的膜的均匀性不良的技术问题。
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公开(公告)号：CN103572240B
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201310589150.6
申请日：2013-11-20
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： C23C14/35
摘要： 本发明提供一种镀膜装置，包括：用于承载基板的基板承载板；用于承载靶材，以使得所述靶材与所述基板相对设置的靶材承载板；以及，用于设置于所述靶材承载板的远离所述基板承载板的一侧的单根磁条；所述磁条至少能够在一预定运动范围内进行运动，所述预定运动范围至少包括：与所述靶材所在区域相对应的靶材区域；及，与所述靶材以外的区域相对应的非靶材区域；所述镀膜装置还包括一用于控制所述磁条在所述靶材区域内进行匀速运动的控制机构。本发明的镀膜装置中磁条的预定运动范围要远大于靶材，当磁条运动到靶材区域时可以进行匀速运动，在最大程度上保证了成膜的均匀性，同时由于靶材各个位置的磁场强度相似，因此可以极大的提高靶材利用率。
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公开(公告)号：CN103572240A
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN201310589150.6
申请日：2013-11-20
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： C23C14/35
摘要： 本发明提供一种镀膜装置，包括：用于承载基板的基板承载板；用于承载靶材，以使得所述靶材与所述基板相对设置的靶材承载板；以及，用于设置于所述靶材承载板的远离所述基板承载板的一侧的单根磁条；所述磁条至少能够在一预定运动范围内进行运动，所述预定运动范围至少包括：与所述靶材所在区域相对应的靶材区域；及，与所述靶材以外的区域相对应的非靶材区域；所述镀膜装置还包括一用于控制所述磁条在所述靶材区域内进行匀速运动的控制机构。本发明的镀膜装置中磁条的预定运动范围要远大于靶材，当磁条运动到靶材区域时可以进行匀速运动，在最大程度上保证了成膜的均匀性，同时由于靶材各个位置的磁场强度相似，因此可以极大的提高靶材利用率。
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公开(公告)号：CN109190563B
公开(公告)日：2022-02-25
申请号：CN201811031248.9
申请日：2018-09-05
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G06K9/00
摘要： 一种显示面板及其制备方法、显示装置。该显示面板包括：光敏传感器；遮光层，设置在光敏传感器的感应侧；遮光层包括至少一个第一开口和至少一个第二开口，第一开口与光敏传感器在垂直于显示面板的表面的方向上彼此重叠且使得穿过第一开口的光可以照射到光敏传感器上；光处理膜，设置在遮光层的靠近第二开口的区域且远离光敏传感器的至少部分表面，光处理膜的光反射率小于遮光层的光反射率。该显示面板所具有的光处理膜可以避免入射光从第二开口射到光敏传感器上，从而可以避免不必要的入射光对光敏传感器的感应精度产生不利影响。
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公开(公告)号：CN109023239A
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201811033375.2
申请日：2018-09-05
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种冷却板、镀膜装置，属于镀膜技术领域。本发明的冷却板，用于支撑掩膜框架，该冷却板包括：冷却板本体、特氟龙层；冷却板本体具有用于朝向掩膜框架的第一侧面，特氟龙层的至少一部分设置在第一侧面上。
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公开(公告)号：CN116240541A
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN202310170262.1
申请日：2023-02-17
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本公开公开了一种防着板表面处理方法、防着板及气相沉积系统，用以提高防着板的使用寿命、提高成膜效果。本公开实施例提供的一种防着板表面处理方法，包括：对防着板的待处理表面进行熔射工艺，形成熔射层；对熔射层的表面进行熔化处理，使得熔射层表面熔化后再结晶，形成再结晶层。
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公开(公告)号：CN109023239B
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN201811033375.2
申请日：2018-09-05
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种冷却板、镀膜装置，属于镀膜技术领域。本发明的冷却板，用于支撑掩膜框架，该冷却板包括：冷却板本体、特氟龙层；冷却板本体具有用于朝向掩膜框架的第一侧面，特氟龙层的至少一部分设置在第一侧面上。
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公开(公告)号：CN107574417B
公开(公告)日：2019-06-28
申请号：CN201710861105.X
申请日：2017-09-21
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： C23C14/34
摘要： 本发明公开了一种溅射系统，包括：溅射腔室；设置于所述溅射腔室内的靶材固定件，所述靶材固定件具有用于将溅射用的气体导入所述溅射腔室内的靶材侧进气孔，所述靶材固定件用于固定靶材；气体供给装置，所述气体供给装置与所述靶材侧进气孔相连通，所述气体供给装置用于供给溅射用的气体。本发明的溅射系统，与现有技术相比，解决了现有的溅射系统因靶材周围的溅射用的气体补充的较慢导致的溅射的膜的均匀性不良的技术问题。
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公开(公告)号：CN113036065B
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202110252157.3
申请日：2021-03-08
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本公开提供一种柔性显示基板及其制备方法、显示装置。所述柔性显示基板的制备方法，包括：在刚性基板上形成隔离保护膜层；在所述隔离保护膜层上形成柔性基底；在所述柔性基底上形成功能层；剥离所述刚性基板，形成所述柔性显示基板。本公开所述柔性显示基板及其制备方法、显示装置，在形成柔性基底之前先形成隔离保护膜层，在后续剥离刚性基板后由于隔离保护膜层仍会附着于柔性基底上起到保护作用，无需额外贴附下保护膜，避免因贴附下保护膜导致的贴合异物、贴合气泡、翘曲等工艺不良，同时减少了工艺步骤并降低了成本；同时，隔离保护膜层可以避免功能层蒸镀过程中无机材料残留于刚性基板中导致后续分离异常。
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