镀膜装置及物理气相沉积设备

    公开(公告)号:CN110106481B

    公开(公告)日:2021-01-26

    申请号:CN201910491693.1

    申请日:2019-06-06

    IPC分类号: C23C14/34

    摘要: 本发明提供了一种镀膜装置及物理气相沉积设备,属于显示技术领域。镀膜装置包括:反应腔室;位于所述反应腔室内,相互平行的第一电极板和第二电极板;位于所述第一电极板和所述第二电极板之间的靶材;位于所述反应腔室内的基板载台,所述基板载台用以承载待镀膜基板;其中,所述第一电极板和所述第二电极板中的至少一个设置有用以通入反应气体的通孔。本发明的技术方案既能够降低PVD装置的生产成本和操作的复杂性,同时也能够提高镀膜的均匀性和靶材的利用率。

    镀膜装置及物理气相沉积设备

    公开(公告)号:CN110106481A

    公开(公告)日:2019-08-09

    申请号:CN201910491693.1

    申请日:2019-06-06

    IPC分类号: C23C14/34

    摘要: 本发明提供了一种镀膜装置及物理气相沉积设备,属于显示技术领域。镀膜装置包括:反应腔室;位于所述反应腔室内,相互平行的第一电极板和第二电极板;位于所述第一电极板和所述第二电极板之间的靶材;位于所述反应腔室内的基板载台,所述基板载台用以承载待镀膜基板;其中,所述第一电极板和所述第二电极板中的至少一个设置有用以通入反应气体的通孔。本发明的技术方案既能够降低PVD装置的生产成本和操作的复杂性,同时也能够提高镀膜的均匀性和靶材的利用率。

    触控基板、触控装置和触控检测方法

    公开(公告)号:CN112020698A

    公开(公告)日:2020-12-01

    申请号:CN201980000415.X

    申请日:2019-03-28

    IPC分类号: G06F3/041

    摘要: 本公开实施例提供一种触控基板、触控装置和触控检测方法,该触控基板包括:衬底基板,所述衬底基板包括触控区域和位于所述触控区域周边的走线区域;多条感应电极,位于所述触控区域内;多条感应电极走线,位于所述走线区域内,与所述多条感应电极一对一连接;其中,所述感应电极包括第一感应电极和第二感应电极,所述第一感应电极从所述触控区域的第一侧与所述感应电极走线连接,所述第二感应电极从所述触控区域的第二侧与所述感应电极走线连接,所述第一侧和所述第二侧为所述触控区域相对的两侧。本公开中,将不同的感应电极从触控区域的相对的两侧与感应电极走线连接,该种连接方式下,每次能够扫描两条感应电极,可以减少感应电极的扫描周期。