公开(公告)号：CN118043207B

公开(公告)日：2024-12-31

申请号：CN202380013821.6

申请日：2023-04-21

Applicant: 京瓷株式会社

Inventor： 保母纯平 ,  日置润 ,  杉本博子 ,  通山刚

IPC: B41M5/00 ,  B41J2/01 ,  C09D11/30 ,  C09D11/54 ,  D06P5/30

Abstract: 本发明的一个方面涉及一种喷墨用处理液，其包括：含有硅油的乳化颗粒；表面活性剂；水性介质，其中，相对于处理液总体，所述硅油的含量为5质量％以上且15质量％以下，所述表面活性剂含有：含有碳数为12～14的烷基的第一表面活性剂；含有碳数为16～18的烷基的第二表面活性剂。

公开(公告)号：CN117580917A

公开(公告)日：2024-02-20

申请号：CN202280045271.1

申请日：2022-10-28

Applicant: 京瓷株式会社

Inventor： 通山刚 ,  杉本博子 ,  保母纯平 ,  日置润

IPC: C09D11/322

Abstract: 本发明一个方面涉及印花用墨水组合物，其含有树脂、颜料、水性介质以及有机溶剂，其中，所述树脂含有：伸长率为500％以上且750％以下、拉伸强度为25MPa以上且40MPa以下的第一树脂；以及伸长率为250％以上且550％以下、拉伸强度为55MPa以上且90MPa以下的第二树脂。

公开(公告)号：CN119255917A

公开(公告)日：2025-01-03

申请号：CN202380045196.3

申请日：2023-06-06

Applicant: 京瓷株式会社

Inventor： 杉本博子 ,  保母纯平 ,  通山刚 ,  日置润

IPC: B41M5/00 ,  B41J2/01 ,  C09D11/54 ,  D06P1/44 ,  D06P5/30

Abstract: 本发明的一个方面涉及一种喷墨用处理液，其含有阳离子性聚合物和琥珀酸，卤素离子浓度为5g/L以下，并且pH为7～9.5。

公开(公告)号：CN117355421A

公开(公告)日：2024-01-05

申请号：CN202280037410.6

申请日：2022-09-09

Applicant: 京瓷株式会社

Inventor： 杉本博子 ,  保母纯平 ,  通山刚 ,  日置润

IPC: B41M5/00

Abstract: 本发明一个方面涉及喷墨用处理液，其含有水溶性阳离子聚合物和有机酸盐，其中，相对于处理液总量，所述水溶性阳离子聚合物的含量为0.1重量％以上且低于10重量％。

公开(公告)号：CN119640604A

公开(公告)日：2025-03-18

申请号：CN202411817551.7

申请日：2023-04-21

Applicant: 京瓷株式会社

Inventor： 保母纯平 ,  日置润 ,  杉本博子 ,  通山刚

IPC: D06P5/30 ,  B41M5/00 ,  B41J2/01 ,  B41J3/407 ,  D06P1/52 ,  D06P1/613 ,  C09D11/30 ,  C09D11/54

Abstract: 本发明的一个方面涉及一种喷墨用处理液，其包括：含有硅油的乳化颗粒；表面活性剂；水性介质，其中，相对于处理液总体，所述硅油的含量为5质量%以上且15质量%以下，所述表面活性剂含有：含有碳数为12～14的烷基的第一表面活性剂；含有碳数为16～18的烷基的第二表面活性剂。

公开(公告)号：CN118043207A

公开(公告)日：2024-05-14

申请号：CN202380013821.6

申请日：2023-04-21

Applicant: 京瓷株式会社

Inventor： 保母纯平 ,  日置润 ,  杉本博子 ,  通山刚

IPC: B41M5/00 ,  B41J2/01 ,  C09D11/30 ,  C09D11/54 ,  D06P5/30

Abstract: 本发明的一个方面涉及一种喷墨用处理液，其包括：含有硅油的乳化颗粒；表面活性剂；水性介质，其中，相对于处理液总体，所述硅油的含量为5质量％以上且15质量％以下，所述表面活性剂含有：含有碳数为12～14的烷基的第一表面活性剂；含有碳数为16～18的烷基的第二表面活性剂。