公开(公告)号：CN113165380B

公开(公告)日：2022-09-23

申请号：CN201980077280.7

申请日：2019-11-21

Applicant: 京瓷株式会社

Inventor： 古泽大贵 ,  川又修平

IPC: B41J2/01 ,  B41J2/14

Abstract: 本发明涉及液体喷出头以及记录装置。液体喷出头(2)具有流路构件(4)、加压部(21)、罩构件(98)以及密封构件(46)。流路构件(4)具有喷出孔、加压室、喷出孔面(4‑1)以及加压室面(4‑2)。加压室与喷出孔相连。喷出孔面(4‑1)位于喷出孔侧。加压室面(4‑2)位于加压室侧。加压部(21)位于加压室面(4‑1)的加压区域(E)。罩构件(98)竖立设置于流路构件(4)。密封构件(62)将罩构件(98)和流路构件(4)进行密封。流路构件(4)具有位于加压室面(4‑1)中的加压区域(E)外的槽(60)。罩构件(98)位于槽(60)。此外，密封构件(62)位于罩构件(98)中的位于槽(60)内的固定部(98b)与槽(60)之间。

公开(公告)号：CN113165380A

公开(公告)日：2021-07-23

申请号：CN201980077280.7

申请日：2019-11-21

Applicant: 京瓷株式会社

Inventor： 古泽大贵 ,  川又修平

IPC: B41J2/01 ,  B41J2/14

Abstract: 液体喷出头(2)具有流路构件(4)、加压部(21)、罩构件(98)以及密封构件(46)。流路构件(4)具有喷出孔、加压室、喷出孔面(4‑1)以及加压室面(4‑2)。加压室与喷出孔相连。喷出孔面(4‑1)位于喷出孔侧。加压室面(4‑2)位于加压室侧。加压部(21)位于加压室面(4‑1)的加压区域(E)。罩构件(98)竖立设置于流路构件(4)。密封构件(62)将罩构件(98)和流路构件(4)进行密封。流路构件(4)具有位于加压室面(4‑1)中的加压区域(E)外的槽(60)。罩构件(98)位于槽(60)。此外，密封构件(62)位于罩构件(98)中的位于槽(60)内的固定部(98b)与槽(60)之间。