辐照衬底的设备和方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1475819A

    公开(公告)日:2004-02-18

    申请号:CN03146493.9

    申请日:2003-07-11

    CPC classification number: G02F1/133634 G02F1/133788

    Abstract: 一种用于处理多层液晶膜显示材料的系统,具有多个辐照设备(60)用于用具有所需的角度的入射光将偏振的UV辐照的区提供到从卷材(16)馈送的衬底上。每个辐照设备(60)包括UV光源(64)和一个或多个任选的滤波器(82)。提供并且按大小排列并设置偏振器(90)以便当卷材(16)移动时在卷材(16)之上提供偏振光。辐照设备(60)使用栅格(81)阵列和/或棱镜阵列(72)。一个辐照设备(60)辐照在卷材移动方向上以0度校准的第一LPP1层(22),另一个辐照设备(60)辐照以正交的90度校准的第二LPP2层(26)。

    用于照射敏化基片的曝光装置

    公开(公告)号:CN1456904A

    公开(公告)日:2003-11-19

    申请号:CN03124136.0

    申请日:2003-05-06

    CPC classification number: G02F1/133788

    Abstract: 一种曝光装置(10),用于将高强度、均匀偏振的UV照射作用于敏化表面,如LCD对准层。远心投影系统(20)向表面(28)投影均匀光用于照射。一个或多个单独的光源(12)可以被组合以提供表面(28)上的区域所需的强度。具有合成结构(42)的积分器(40)允许合成来自多个光源(12)的光。在曝光照射路径上的可选数目的位置之一提供偏光镜(18)。

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