公开(公告)号：CN102666100B

公开(公告)日：2015-05-06

申请号：CN201080059376.X

申请日：2010-10-12

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： C·J·兰德里-科尔特雷恩 ,  M·S·伯贝里 ,  D·佩查克 ,  K·C·吴 ,  L·W·塔特 ,  L·A·罗利 ,  L·M·弗兰克林

IPC: B41C1/05 ,  B41M5/24

CPC classification number: B41C1/05 ,  B41M5/24 ,  B41N1/12 ,  Y10S430/145 ,  Y10T428/269 ,  Y10T428/31504

Abstract: 一种用于直接激光刻版的可激光烧蚀元件，其具有可激光烧蚀的浮雕形成层，所述浮雕形成层具有浮雕图像形成表面和底面。该浮雕形成层包括可激光烧蚀聚合物粘合剂和红外辐射吸收化合物，所述红外辐射吸收化合物以一定的浓度分布存在以使其浓度在底面附近大于在图像形成表面附近。红外辐射吸收化合物的这种布置提供改善的烧蚀效率，特别是当绝热地进行激光曝光时。

公开(公告)号：CN102666100A

公开(公告)日：2012-09-12

申请号：CN201080059376.X

申请日：2010-10-12

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： C·J·兰德里-科尔特雷恩 ,  M·S·伯贝里 ,  D·佩查克 ,  K·C·吴 ,  L·W·塔特 ,  L·A·罗利 ,  L·M·弗兰克林

IPC: B41C1/05 ,  B41M5/24

CPC classification number: B41C1/05 ,  B41M5/24 ,  B41N1/12 ,  Y10S430/145 ,  Y10T428/269 ,  Y10T428/31504

Abstract: 一种用于直接激光刻版的可激光烧蚀元件，其具有可激光烧蚀的浮雕形成层，所述浮雕形成层具有浮雕图像形成表面和底面。该浮雕形成层包括可激光烧蚀聚合物粘合剂和红外辐射吸收化合物，所述红外辐射吸收化合物以一定的浓度分布存在以使其浓度在底面附近大于在图像形成表面附近。红外辐射吸收化合物的这种布置提供改善的烧蚀效率，特别是当绝热地进行激光曝光时。