原子层沉积装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101415862A

    公开(公告)日:2009-04-22

    申请号:CN200780011685.8

    申请日:2007-03-14

    Inventor: D·H·李维

    Abstract: 本发明提供一种用于在基材(20)上沉积薄膜物质的分配歧管(10),所述分配歧管包括多个用于序列气态物质的入口(18),包括多个开放的伸长输出通道(12)的输出面,各通道以长度方向实质平行延伸。所述分配歧管(10)可用于沉积薄膜的沉积系统,且进一步包括用于多种气态物质的多个源,和用于使基材按预定紧密接近分配歧管(10)输出面定位的载体。在系统操作期间,完成输出面和基材载体之间的相对移动。

    原子层沉积方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101415860A

    公开(公告)日:2009-04-22

    申请号:CN200780011728.2

    申请日:2007-03-14

    Inventor: D·H·李维

    Abstract: 本发明涉及在基材上沉积薄膜的沉积方法,所述方法包括提供包含至少第一气态物质、第二气态物质和第三气态物质的多种气态物质,其中第一气态物质和第二气态物质相互为反应性,使得在第一气态物质或第二气态物质之一在基材的表面上时,第一气态物质或第二气态物质的另一种物质反应以在基材上沉积物质层,并且其中第三气态物质相对于与第一气态物质或第二气态物质反应为惰性。所述方法包括使气态物质沿着多个伸长通道的长度方向跨与其接近的基材表面流动。

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