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公开(公告)号：CN1993228A
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN200580025682.0
申请日：2005-08-02
Applicant: 伊斯曼柯达公司
Inventor： J·M·奇沃莱克 , J·A·莱本斯 , C·N·德拉梅特 , D·P·特劳尔尼希特 , G·A·克尼策尔
CPC classification number: B41J2/1601 , B41J2/14137 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1635 , B41J2/1637 , B41J2002/1437 , B41J2002/14467 , Y10T29/49401
Abstract: 一种包括衬底(110)的流体喷射装置，其中，衬底(110)具有第一表面(111)和定位成相对于第一表面的第二表面(112)。喷嘴板(140)形成于衬底的第一表面之上。喷嘴板具有可通过它喷射出流体的喷嘴(152)。微滴形成机构(151)定位在喷嘴的外围。流体室(113)与喷嘴流体连通，并且具有第一壁和第二壁，其中第一壁(116)和第二壁(117)定位成彼此之间形成一定角度。流体传输通道(115)形成于衬底中，并且从衬底的第二表面延伸至流体室。流体传输通道与流体室流体连通。流体阻抗源(114)包括位于喷嘴和流体传输通道之间的物理结构。
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公开(公告)号：CN101588927A
公开(公告)日：2009-11-25
申请号：CN200880003182.0
申请日：2008-03-19
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: B41J2/14
CPC classification number: B41J2/1404 , B41J2/055 , B41J2/14072 , B41J2/14145 , B41J2002/14387 , B41J2002/14403 , B41J2002/14467 , B41J2002/14475 , B41J2202/18 , H04L43/0864 , H04L43/12 , Y04S40/168
Abstract: 本发明提出一种液体喷射器，它包括形成腔室的结构。该腔室包括第一表面和第二表面。第一表面包括喷嘴孔。将液滴形成机构设置在腔室的与喷嘴孔相对的第二表面上。第一液体馈送通道和第二液体馈送通道与腔室处于流体连通状态。分成段的液体入口的第一段与第一液体馈送通道处于流体连通状态，而分成段的液体入口的第二段与第二液体馈送通道处于流体连通状态。
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公开(公告)号：CN101588927B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN200880003182.0
申请日：2008-03-19
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: B41J2/14
CPC classification number: B41J2/1404 , B41J2/055 , B41J2/14072 , B41J2/14145 , B41J2002/14387 , B41J2002/14403 , B41J2002/14467 , B41J2002/14475 , B41J2202/18 , H04L43/0864 , H04L43/12 , Y04S40/168
Abstract: 本发明提出一种液体喷射器，它包括形成腔室的结构。该腔室包括第一表面和第二表面。第一表面包括喷嘴孔。将液滴形成机构设置在腔室的与喷嘴孔相对的第二表面上。第一液体馈送通道和第二液体馈送通道与腔室处于流体连通状态。分成段的液体入口的第一段与第一液体馈送通道处于流体连通状态，而分成段的液体入口的第二段与第二液体馈送通道处于流体连通状态。
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公开(公告)号：CN1993228B
公开(公告)日：2011-09-07
申请号：CN200580025682.0
申请日：2005-08-02
Applicant: 伊斯曼柯达公司
Inventor： J·M·奇沃莱克 , J·A·莱本斯 , C·N·德拉梅特 , D·P·特劳尔尼希特 , G·A·克尼策尔
CPC classification number: B41J2/1601 , B41J2/14137 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1635 , B41J2/1637 , B41J2002/1437 , B41J2002/14467 , Y10T29/49401
Abstract: 一种包括衬底(110)的流体喷射装置，其中，衬底(110)具有第一表面(111)和定位成相对于第一表面的第二表面(112)。喷嘴板(140)形成于衬底的第一表面之上。喷嘴板具有可通过它喷射出流体的喷嘴(152)。微滴形成机构(151)定位在喷嘴的外围。流体室(113)与喷嘴流体连通，并且具有第一壁和第二壁，其中第一壁(116)和第二壁(117)定位成彼此之间形成一定角度。流体传输通道(115)形成于衬底中，并且从衬底的第二表面延伸至流体室。流体传输通道与流体室流体连通。流体阻抗源(114)包括位于喷嘴和流体传输通道之间的物理结构。
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