公开(公告)号：CN101031826A

公开(公告)日：2007-09-05

申请号：CN200580030603.5

申请日：2005-09-01

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： R·H·威尔逊

IPC: G02B3/00 ,  G02B6/00 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02B6/0053 ,  G02B5/0221 ,  G02B5/0278 ,  G02B5/045 ,  G02B6/0065 ,  G02B27/095 ,  G02F1/133526

Abstract: 将元件在表面上任意排列成随机图案、使得元件的随机图案基本上完全占据表面区域的方法包括选择重叠距离以及创建基本上完全占据表面区域的元件的初始图案，其中，相邻元件重叠所述重叠距离。该方法还包括：选择最大位移距离；以及将元件从初始图案中它们的位置移动随机位移距离，随机位移距离小于最大位移距离。此外，两个相邻元件之间的位移的带符号差不大于重叠距离。还公开了包括元件的装置。

公开(公告)号：CN1964848A

公开(公告)日：2007-05-16

申请号：CN200580018261.5

申请日：2005-05-24

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： T·S·赖特 ,  G·T·赫尔策尔 ,  D·凯斯勒 ,  R·H·威尔逊

IPC: B41C1/04 ,  G03F1/00 ,  B41M3/00 ,  B23H9/00 ,  B23H9/06

CPC classification number: G02B6/0053 ,  B23H9/00 ,  B23H9/06 ,  B41C1/045 ,  G02B6/0065

Abstract: 一种方法包括在一刚性表面上机电蚀刻三维模制图案(N)。该刚性表面设置成依据该模制图案(N)进行微复制。该刚性表面可以是图案辊。该模制图案可以用于光变向薄膜(2)的光学部件(5)的微复制。