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公开(公告)号:CN103827040B
公开(公告)日:2016-01-27
申请号:CN201280005584.0
申请日:2012-01-16
申请人: 伊沃夸水处理技术有限责任公司
发明人: B.L.库尔特
IPC分类号: C02F1/00
CPC分类号: C02F9/00 , C02F1/008 , C02F1/325 , C02F1/70 , C02F2103/04 , C02F2201/3227 , C02F2201/326 , C02F2201/328 , C02F2209/001 , C02F2209/003 , C02F2209/005 , C02F2209/008 , C02F2209/20 , C02F2303/18 , C02F2305/023
摘要: 提供了一种用于为半导体制作操作提供超纯水的方法和系统。通过利用自由基清除系统和自由基除去系统对水进行处理。自由基清除系统可以利用借助自由基原始化合物(诸如过硫酸铵)的光化辐射。自由基除去系统可以包括对还原剂的使用。可以通过利用离子交换介质和除气装置来对超纯水进一步进行处理。可以利用控制系统来调整原始化合物的添加、光化辐射的强度以及还原剂向水的添加。
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公开(公告)号:CN103827040A
公开(公告)日:2014-05-28
申请号:CN201280005584.0
申请日:2012-01-16
申请人: 伊沃夸水处理技术有限责任公司
发明人: B.L.库尔特
IPC分类号: C02F1/00
CPC分类号: C02F9/00 , C02F1/008 , C02F1/325 , C02F1/70 , C02F2103/04 , C02F2201/3227 , C02F2201/326 , C02F2201/328 , C02F2209/001 , C02F2209/003 , C02F2209/005 , C02F2209/008 , C02F2209/20 , C02F2303/18 , C02F2305/023
摘要: 提供了一种用于为半导体制作操作提供超纯水的方法和系统。通过利用自由基清除系统和自由基除去系统对水进行处理。自由基清除系统可以利用借助自由基原始化合物(诸如过硫酸铵)的光化辐射。自由基除去系统可以包括对还原剂的使用。可以通过利用离子交换介质和除气装置来对超纯水进一步进行处理。可以利用控制系统来调整原始化合物的添加、光化辐射的强度以及还原剂向水的添加。
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