公开(公告)号：CN104238227B

公开(公告)日：2019-03-22

申请号：CN201410266059.5

申请日：2003-05-23

Applicant: 伊英克公司

Inventor： G.M.丹纳 ,  K.R.阿蒙森 ,  A.C.阿兰戈 ,  J.B.埃温 ,  R.W.泽纳

IPC: G09G3/34

Abstract: 一种用于寻址双稳电光媒质的方法，其中，向该媒质施加具有偏移的交变电场。从而，具有偏移的波形元素相对于其它波形元素的优点在于不需要对寻址脉冲精确定时。

公开(公告)号：CN104238227A

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：CN201410266059.5

申请日：2003-05-23

Applicant: 伊英克公司

Inventor： G.M.丹纳 ,  K.R.阿蒙森 ,  A.C.阿兰戈 ,  J.B.埃温 ,  R.W.泽纳

IPC: G02F1/167 ,  G09G3/34

CPC classification number: G09G3/344 ,  G09G3/38 ,  G09G2300/0443 ,  G09G2310/02 ,  G09G2310/06 ,  G09G2310/061 ,  G09G2310/065 ,  G09G2320/0204 ,  G09G2320/0247 ,  G09G2320/04

Abstract: 一种用于寻址双稳电光媒质的方法，其中，向该媒质施加具有偏移的交变电场。从而，具有偏移的波形元素相对于其它波形元素的优点在于不需要对寻址脉冲精确定时。