流体装置及其制造方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109311013A

    公开(公告)日:2019-02-05

    申请号:CN201780038147.1

    申请日:2017-12-12

    Abstract: 一种实例方法包括提供工作堆栈,该工作堆栈具有第一基板层、第二基板层及安置于该第一基板层与该第二基板层之间的辐射吸收材料。该工作堆栈在其中包括具有指定液体的空腔。结合界面界定于该辐射吸收材料与该第一基板层或该第二基板层中的至少一者之间。该结合界面具有该指定液体的膜。该方法亦包括将辐射引导至该结合界面上以形成周边密封部。该周边密封部分离该空腔与该结合界面的外部区域。该方法亦包括将该辐射引导至该结合界面的该外部区域上以将该第一基板层及该第二基板层紧固在一起。该周边密封部在当该辐射被引导至该外部区域上时阻止气泡自该外部区域进入至该空腔中。

    流体装置及其制造方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109311013B

    公开(公告)日:2021-06-04

    申请号:CN201780038147.1

    申请日:2017-12-12

    Abstract: 一种实例方法包括提供工作堆栈,该工作堆栈具有第一基板层、第二基板层及安置于该第一基板层与该第二基板层之间的辐射吸收材料。该工作堆栈在其中包括具有指定液体的空腔。结合界面界定于该辐射吸收材料与该第一基板层或该第二基板层中的至少一者之间。该结合界面具有该指定液体的膜。该方法亦包括将辐射引导至该结合界面上以形成周边密封部。该周边密封部分离该空腔与该结合界面的外部区域。该方法亦包括将该辐射引导至该结合界面的该外部区域上以将该第一基板层及该第二基板层紧固在一起。该周边密封部在当该辐射被引导至该外部区域上时阻止气泡自该外部区域进入至该空腔中。

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