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公开(公告)号:CN118930328A
公开(公告)日:2024-11-12
申请号:CN202411034384.9
申请日:2024-07-31
申请人: 佛山市东鹏陶瓷有限公司 , 广东东鹏控股股份有限公司 , 佛山市东鹏陶瓷发展有限公司 , 佛山东华盛昌新材料有限公司
摘要: 本发明涉及建筑陶瓷技术领域,公开了一种具有立体定位效果的珠光幻彩釉面砖及制备方法,首先通过具有高折射率的白色金属氧化物氧化铈,包裹配方所生成、具有低光学折射率的层状玻璃质氟硅铝酸盐,制得一种具有珠光效果的熔块。同时,在珠光熔块釉层的底部增设一层具有凹凸效果的定位干粒层,使得珠光熔块釉层可以在釉面砖的顶部产生厚度偏差,即珠光熔块釉层在定位干粒层凸出的区域厚度较薄,在定位干粒层凹陷的区域厚度较厚,上述厚度偏差有利于促进具有层状结构载体的珠光熔块在光照的条件下产生更强烈的反射、折射和干涉,从而提升釉面砖表面的珠光幻彩效果。
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公开(公告)号:CN118561629A
公开(公告)日:2024-08-30
申请号:CN202411034528.0
申请日:2024-07-31
申请人: 佛山市东鹏陶瓷有限公司 , 广东东鹏控股股份有限公司 , 佛山市东鹏陶瓷发展有限公司 , 佛山东华盛昌新材料有限公司
摘要: 本发明涉及建筑陶瓷技术领域,公开了一种具有凹凸效果的珠光幻彩数码釉面砖及制备方法,首先通过具有高折射率的白色金属氧化物氧化铈,包裹配方所生成、具有低光学折射率的层状玻璃质氟硅铝酸盐,制得一种具有珠光效果的熔块。同时,在珠光熔块釉层的底部增设一层具有凹凸效果的数码模具底釉层,使得珠光熔块釉层可以在釉面砖的顶部产生厚度偏差,即珠光熔块釉层在数码模具底釉层凸出的区域厚度较薄,在数码模具底釉层凹陷的区域厚度较厚,上述厚度偏差有利于促进具有层状结构载体的珠光熔块在光照的条件下产生更强烈的反射、折射和干涉,从而提升釉面砖表面的珠光幻彩效果。
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公开(公告)号:CN116082063A
公开(公告)日:2023-05-09
申请号:CN202310368426.1
申请日:2023-04-10
申请人: 佛山市东鹏陶瓷有限公司 , 广东东鹏控股股份有限公司 , 佛山市东鹏陶瓷发展有限公司 , 佛山东华盛昌新材料有限公司
摘要: 本发明涉及建筑陶瓷技术领域,尤其涉及一种耐酸碱金属釉料、耐酸碱金属釉陶瓷及其制备方法,其中,按照质量百分比计算,一种耐酸碱金属釉料包括高岭土35~45%、磷酸铁27~33%、磷灰石7~10%、钠长石7~13%、烧滑石6~10%、晶核剂1~4%、硼熔块3~5%、调色金属氧化物0.1~0.5%和三聚磷酸钠0.2~0.5%;按照质量百分比计算,所述硼熔块包括石英35~45%、硼砂28~43%、碳酸钠3~7%、煅烧氧化铝8~13%、烧滑石4~6%和钠长石4~7%。本方案提出的提出一种耐酸碱金属釉料,其具有优异的金属质感和耐酸碱性能,以克服现有技术的不足。
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公开(公告)号:CN115368167A
公开(公告)日:2022-11-22
申请号:CN202211033475.1
申请日:2022-08-26
申请人: 佛山市东鹏陶瓷有限公司 , 广东东鹏控股股份有限公司 , 佛山市东鹏陶瓷发展有限公司 , 清远纳福娜陶瓷有限公司
摘要: 本发明公开了一种耐磨抛釉砖及其制备方法,涉及建筑陶瓷技术领域。耐磨抛釉砖的制备方法包括以下步骤:将耐磨干粒和悬浮剂混合后,得到干粒耐磨釉,其中,耐磨干粒的原料包括高岭土、单晶氧化铝、烧滑石、硅灰石、钾长石、硝酸钾和六氟铝酸钠;将耐磨干粒和抛釉料混合后球磨,得到防污保护釉;在坯体的表面依次施面釉、喷墨印花后,在喷墨层的表面施抛釉料,得到抛釉层;在抛釉层的表面布施干粒耐磨釉,得到耐磨干粒层;在耐磨干粒层的表面布施防污保护釉,得到防污保护层;将上述制得的坯体烘干后烧成,抛光,得到耐磨抛釉砖。采用本发明的方法制备耐磨抛釉砖,能够有效提高耐磨抛釉砖的釉面硬度和耐磨性,同时能降低水波纹等瓷砖缺陷的产生。
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公开(公告)号:CN115159850A
公开(公告)日:2022-10-11
申请号:CN202211035309.5
申请日:2022-08-26
申请人: 佛山市东鹏陶瓷有限公司 , 广东东鹏控股股份有限公司 , 佛山市东鹏陶瓷发展有限公司 , 清远纳福娜陶瓷有限公司
摘要: 本发明公开了一种低成本耐磨的抛釉砖釉料其制备方法、抛釉砖,涉及建筑陶瓷技术领域。按质量份数,抛釉砖釉料的原料包括高岭土6~10份、煅烧高岭土3~6份、石英2~5份、白云石8~15份、烧滑石6~12份、钾长石30~40份、钠长石10~18份、碳酸钡5~8份和耐磨熔块8~15份;耐磨熔块的原料包括高岭土48~55份、单晶氧化铝3~6份、烧滑石12~18份、硅灰石4~10份、钾长石18~25份、硝酸钾3~8份和六氟铝酸钠1~3份。本发明低成本耐磨的抛釉砖釉料,具有高耐磨性和高透明度的优点,而且能大大的降低成本,解决了现有抛釉砖釉料为了提升釉料的耐磨性,而导致抛釉砖釉料的透明度差和成本高的问题。
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公开(公告)号:CN114656151A
公开(公告)日:2022-06-24
申请号:CN202210577791.9
申请日:2022-05-26
申请人: 佛山市东鹏陶瓷发展有限公司 , 广东东鹏控股股份有限公司 , 佛山市东鹏陶瓷有限公司
摘要: 本发明涉及建筑陶瓷技术领域。本发明公开了一种抛釉砖耐磨釉料及其制备方法,该釉料包括生料粉、晶相耐磨熔块和析晶耐磨熔块;生料粉的原料包括蓝宝石单晶氧化铝、白云石、烧滑石、氧化锌、碳酸锶和硫酸钡,其中,蓝宝石单晶氧化铝占生料粉原料总质量的4‑10%;晶相耐磨熔块的原料包括蓝宝石单晶氧化铝、锆英粉、萤石、烧滑石和高岭土,其中,蓝宝石单晶氧化铝占晶相耐磨熔块原料总质量的5‑12%;析晶耐磨熔块的原料包括钾冰晶石、煅烧氧化铝、氧化锌、碳酸锶、钾长石和方解石,氧化锌、碳酸锶、钾长石和方解石的总量占析晶耐磨熔块原料总质量的25‑45%;蓝宝石单晶氧化铝的粒径为325目‑500目。该釉料硬度高、耐磨性优异。
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公开(公告)号:CN111517651B
公开(公告)日:2021-12-14
申请号:CN202010342588.4
申请日:2020-04-27
申请人: 佛山市东鹏陶瓷有限公司 , 广东东鹏控股股份有限公司 , 佛山市东鹏陶瓷发展有限公司
摘要: 本发明公开了一种耐磨釉料,所述耐磨釉料的原料包括含钙碳酸盐、烧滑石和高岭土混合物,且原料不含有刚玉和长石。本技术方案提出的一种耐磨釉料,其通过在低温耐磨熔块中析出钙长石、莫来石为主要晶相来提升釉料的耐磨性能,同时有利于确保其防污性能的实现,以克服现有技术中的不足之处。进而提出一种上述耐磨釉料的制备方法,工艺简单,操作性强。另外,还提出了一种使用上述耐磨釉料的釉面砖,其耐磨度为4级2100转,6000转耐磨磨耗为0.05~0.055g。
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公开(公告)号:CN111533449A
公开(公告)日:2020-08-14
申请号:CN202010342964.X
申请日:2020-04-27
申请人: 佛山市东鹏陶瓷有限公司 , 广东东鹏控股股份有限公司 , 佛山市东鹏陶瓷发展有限公司
摘要: 本发明公开了一种高温耐磨熔块,所述高温耐磨熔块的原料包括方解石、白云石、硅灰石、烧滑石、高岭土、氧化铝和低温助熔剂,且原料中不含有长石;所述方解石的添加量大于15%,所述白云石的添加量大于1%,所述硅灰石的添加量大于2%,所述烧滑石的添加量大于30%,且所述氧化铝的添加量小于10%。本发明的目的在于提出一种高温耐磨熔块,配方中避免了长石的引入,有利于提升高温耐磨熔块的耐磨性能,以克服现有技术中的不足之处。进而提出的一种使用上述高温耐磨熔块的耐磨釉料,其通过在高温耐磨熔块中析出钙长石、堇青石、莫来石为晶相来提升釉料的耐磨性能。另外还提出一种使用上述耐磨釉料的釉面砖,其耐磨度为4级2100转,6000转耐磨磨耗为0.042~0.05g。
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公开(公告)号:CN110804331A
公开(公告)日:2020-02-18
申请号:CN201911140018.0
申请日:2019-11-20
申请人: 佛山市东鹏陶瓷有限公司 , 广东东鹏控股股份有限公司 , 佛山市东鹏陶瓷发展有限公司
IPC分类号: C09D5/24 , C09D163/00 , C04B41/87
摘要: 本发明公开了一种防静电剂的制备方法,包括以下步骤:混料:将以质量百分比计算的氧化锡60~80%、三氧化二锑0.2~10%、贝壳灰5~15%、石英5~12%和氧化铝0~5%混合均匀后得到混合料;煅烧:将混合料放入窑炉内煅烧7~8小时;水洗:将煅烧后的混合料破碎并水洗;造粒:将水洗后的混合料进行球磨,过筛得到防静电剂。本技术方案提出的一种防静电剂的制备方法,操作性强,经煅烧后能有效稳定防静电剂的防静电性能,提高防静电剂的适用性。进而提出一种防静电剂,其防静电效果稳定。再提出一种防静电涂料,用量极少即可达到极好的防静电效果,提高了防静电涂料的使用满意度。又再提出一种使用上述涂料的防静电瓷砖的制备方法,使防静电瓷砖的点对点电阻达到106~108Ω的标准。
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公开(公告)号:CN110683767A
公开(公告)日:2020-01-14
申请号:CN201911144473.8
申请日:2019-11-20
申请人: 佛山市东鹏陶瓷有限公司 , 广东东鹏控股股份有限公司 , 佛山市东鹏陶瓷发展有限公司
摘要: 本发明涉及建筑陶瓷技术领域,尤其涉及一种高性能耐磨釉料及其制备方法,所述高性能耐磨釉料,按照原料重量百分比,其原料由生釉料粉65-75%和熔块粉25-35%组成;按照重量百分比,所述生釉料粉包括以下原料:钠长石30-40%,烧滑石12-16%,高岭土4%-10%,方解石10-15%,氧化锌2-8%,硅灰石10-15%,刚玉10-20%和碳酸钡2-8%。本发明的目的在于提出一种高性能耐磨釉料及其制备方法,通过该釉料制得的抛釉砖平整度满足生产工艺要求的同时,解决了釉层透明度和耐磨性能的矛盾,制成的抛釉砖耐磨度有极大提升,平整度高,发色好。
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