一种单层单晶石墨烯的制备方法

    公开(公告)号:CN107640763B

    公开(公告)日:2020-02-04

    申请号:CN201711147438.2

    申请日:2017-11-17

    IPC分类号: C01B32/186

    摘要: 本发明提供一种单层单晶石墨烯的制备方法,包括以下步骤:将装有铜基催化剂的半封闭石英试管放入管式炉中,装有固体碳源的称量瓶放入管式炉靠近进气口的一端,通入惰性气体;持续通入惰性气体,将铜基催化剂加热升温至600℃~800℃,然后恒温保持30~120min;停止通入惰性气体,开始通入还原性气体,将铜基催化剂加热升温至1000℃~1050℃,然后恒温保持60~120min,迅速降温,即可在铜基催化剂表面得到单层单晶石墨烯。本发明操作方便,简单易行,安全可靠,成本较低,可控性强,用于高端电子器件和集成电路,为实现单层单晶石墨烯的产业化道路提供了一种技术支持。

    一种单层单晶石墨烯的制备方法

    公开(公告)号:CN107640763A

    公开(公告)日:2018-01-30

    申请号:CN201711147438.2

    申请日:2017-11-17

    IPC分类号: C01B32/186

    摘要: 本发明提供一种单层单晶石墨烯的制备方法,包括以下步骤:将装有铜基催化剂的半封闭石英试管放入管式炉中,装有固体碳源的称量瓶放入管式炉靠近进气口的一端,通入惰性气体;持续通入惰性气体,将铜基催化剂加热升温至600℃~800℃,然后恒温保持30~120min;停止通入惰性气体,开始通入还原性气体,将铜基催化剂加热升温至1000℃~1050℃,然后恒温保持60~120min,迅速降温,即可在铜基催化剂表面得到单层单晶石墨烯。本发明操作方便,简单易行,安全可靠,成本较低,可控性强,用于高端电子器件和集成电路,为实现单层单晶石墨烯的产业化道路提供了一种技术支持。