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公开(公告)号:CN107640763B
公开(公告)日:2020-02-04
申请号:CN201711147438.2
申请日:2017-11-17
申请人: 信阳师范学院
IPC分类号: C01B32/186
摘要: 本发明提供一种单层单晶石墨烯的制备方法,包括以下步骤:将装有铜基催化剂的半封闭石英试管放入管式炉中,装有固体碳源的称量瓶放入管式炉靠近进气口的一端,通入惰性气体;持续通入惰性气体,将铜基催化剂加热升温至600℃~800℃,然后恒温保持30~120min;停止通入惰性气体,开始通入还原性气体,将铜基催化剂加热升温至1000℃~1050℃,然后恒温保持60~120min,迅速降温,即可在铜基催化剂表面得到单层单晶石墨烯。本发明操作方便,简单易行,安全可靠,成本较低,可控性强,用于高端电子器件和集成电路,为实现单层单晶石墨烯的产业化道路提供了一种技术支持。
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公开(公告)号:CN107640763A
公开(公告)日:2018-01-30
申请号:CN201711147438.2
申请日:2017-11-17
申请人: 信阳师范学院
IPC分类号: C01B32/186
摘要: 本发明提供一种单层单晶石墨烯的制备方法,包括以下步骤:将装有铜基催化剂的半封闭石英试管放入管式炉中,装有固体碳源的称量瓶放入管式炉靠近进气口的一端,通入惰性气体;持续通入惰性气体,将铜基催化剂加热升温至600℃~800℃,然后恒温保持30~120min;停止通入惰性气体,开始通入还原性气体,将铜基催化剂加热升温至1000℃~1050℃,然后恒温保持60~120min,迅速降温,即可在铜基催化剂表面得到单层单晶石墨烯。本发明操作方便,简单易行,安全可靠,成本较低,可控性强,用于高端电子器件和集成电路,为实现单层单晶石墨烯的产业化道路提供了一种技术支持。
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