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公开(公告)号：CN102719795B
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：CN201210232691.9
申请日：2012-07-06
申请人： 光驰科技(上海)有限公司
IPC分类号： C23C14/24
摘要： 一种成膜装置，构成包括蒸镀釜及其内的加热部，在所述的蒸镀釜内与所述的加热部的蒸汽出汽口相对的是基板及其移动夹具；用档板与所述蒸镀釜分隔的副釜；蒸镀溶液供给部，该蒸镀溶液供给部的供给管直通所述的副釜内；贯通所述挡板从所述副釜至所述蒸镀釜内的加热部设置传送蒸镀材料的传输带；所述蒸镀溶液供给部向所述的副釜内将蒸镀溶液连续不断地提供给所述传输带上，所述的加热部对所述的蒸镀材料加热汽化后的蒸汽从所述的蒸汽出汽口喷射在所述的基板上沉积，形成所述蒸镀材料的膜。本发明的成膜装置的特点是连续地使用液态的蒸镀材料进行蒸发镀膜，并能有效地防止所形成膜的膜质劣化。
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公开(公告)号：CN103643206A
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201310609659.2
申请日：2013-11-27
申请人： 光驰科技(上海)有限公司
IPC分类号： C23C14/26
摘要： 本发明提供一种真空蒸镀源，包括内部盛放有蒸镀材料的坩埚，所述坩埚包括具有第一开口的坩埚主体和具有第二开口的坩埚上部，所述第二开口的直径小于第一开口；对所述蒸镀材料的表面通过热辐射的方式进行加热的上方加热器，所述上方加热器设置在所述坩埚上部的外侧并避开所述第二开口位置；用于反射所述上方加热器所产生的辐射热能的反射物，所述反射物设置在所述上方加热器的外侧并避开所述第二开口位置。本发明还提供使用该真空蒸镀源的真空蒸镀方法。本发明的真空蒸镀源和蒸镀方法可以提高真空镀膜过程中的镀膜稳定性。
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公开(公告)号：CN103643206B
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201310609659.2
申请日：2013-11-27
申请人： 光驰科技(上海)有限公司
IPC分类号： C23C14/26
摘要： 本发明提供一种真空蒸镀源，包括内部盛放有蒸镀材料的坩埚，所述坩埚包括具有第一开口的坩埚主体和具有第二开口的坩埚上部，所述第二开口的直径小于第一开口；对所述蒸镀材料的表面通过热辐射的方式进行加热的上方加热器，所述上方加热器设置在所述坩埚上部的外侧并避开所述第二开口位置；用于反射所述上方加热器所产生的辐射热能的反射物，所述反射物设置在所述上方加热器的外侧并避开所述第二开口位置。本发明还提供使用该真空蒸镀源的真空蒸镀方法。本发明的真空蒸镀源和蒸镀方法可以提高真空镀膜过程中的镀膜稳定性。
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公开(公告)号：CN102719795A
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：CN201210232691.9
申请日：2012-07-06
申请人： 光驰科技(上海)有限公司
IPC分类号： C23C14/24
摘要： 一种成膜装置，构成包括蒸镀釜及其内的加热部，在所述的蒸镀釜内与所述的加热部的蒸汽出汽口相对的是基板及其移动夹具；用档板与所述蒸镀釜分隔的副釜；蒸镀溶液供给部，该蒸镀溶液供给部的供给管直通所述的副釜内；贯通所述挡板从所述副釜至所述蒸镀釜内的加热部设置传送蒸镀材料的传输带；所述蒸镀溶液供给部向所述的副釜内将蒸镀溶液连续不断地提供给所述传输带上，所述的加热部对所述的蒸镀材料加热汽化后的蒸汽从所述的蒸汽出汽口喷射在所述的基板上沉积，形成所述蒸镀材料的膜。本发明的成膜装置的特点是连续地使用液态的蒸镀材料进行蒸发镀膜，并能有效地防止所形成膜的膜质劣化。
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公开(公告)号：CN202755046U
公开(公告)日：2013-02-27
申请号：CN201220325310.7
申请日：2012-07-06
申请人： 光驰科技(上海)有限公司
IPC分类号： C23C14/24
摘要： 一种成膜装置，构成包括蒸镀釜及其内的加热部，在所述的蒸镀釜内与所述的加热部的蒸汽出汽口相对的是基板及其移动夹具；用档板与所述蒸镀釜分隔的副釜；蒸镀溶液供给部，该蒸镀溶液供给部的供给管直通所述的副釜内；贯通所述挡板从所述副釜至所述蒸镀釜内的加热部设置传送蒸镀材料的传输带；所述蒸镀溶液供给部向所述的副釜内将蒸镀溶液连续不断地提供给所述传输带上，所述的加热部对所述的蒸镀材料加热汽化后的蒸汽从所述的蒸汽出汽口喷射在所述的基板上沉积，形成所述蒸镀材料的膜。本实用新型的成膜装置的特点是连续地使用液态的蒸镀材料进行蒸发镀膜，并能有效地防止所形成膜的膜质劣化。
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