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公开(公告)号：CN102782199A
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN201180009149.0
申请日：2011-02-10
申请人： 克塞罗斯有限公司
发明人： 史蒂芬·德里克·詹金斯 , 弗雷泽·约翰·肯尼迪
CPC分类号： D06F35/005 , D06F23/02 , D06F35/00 , D06F37/304 , D06F39/04
摘要： 本发明提供一种用于清洗污染的基材的设备及方法，所述设备包括：（a）外壳装置（1），具有：（i）其中安装有旋转安装的圆柱形转笼的第一上腔室，以及（ii）位于所述圆柱形转笼下方的第二下腔室（3）；（b）至少一个再循环装置（4）；（c）通道装置（10）；（d）泵送装置（8）；（e）多个输送装置（6），其中所述可旋转地安装的圆柱形转笼包括滚筒（2），该滚筒包括穿孔侧壁，其中高达60%的侧壁表面积包括穿孔，且所述穿孔包括直径不超过25.0mm的孔。所述方法涉及通过用包括固体颗粒清洁材料和洗涤水的配制品处理湿润的基材来清洗所述污染的基材，所述方法利用本发明的设备进行。所述设备及方法在清洗纺织品织物方面有特定应用。
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公开(公告)号：CN102713043A
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201080061216.9
申请日：2010-11-24
申请人： 克塞罗斯有限公司
发明人： 史蒂芬·德里克·詹金斯 , 威廉·乔治·韦斯特沃特
CPC分类号： D06F23/025 , D06F35/00 , D06F35/006
摘要： 本发明提供了用在清洁脏基材中的设备和方法，该设备包括：（a）外壳装置，包括：（i）第一上部腔室，其中安装有可旋转安装的圆柱形罐笼，以及（ii）位于所述圆柱形罐笼下方的下部腔室；（b）至少一个再循环装置；（c）存取装置；（d）多个传送装置；以及（e）密封装置，其中所述密封装置可移除地附着至所述可旋转安装的圆柱形罐笼的圆柱形侧壁的外表面，并且适于防止流体和固体颗粒物质进出所述罐笼的内部。该方法包括通过用包括固体颗粒清洁材料和洗涤水的配方处理基材来清洁脏基材，该方法利用本发明的设备执行，并且该设备和该方法在纺织织物的清洁中获得特别的应用。
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公开(公告)号：CN102317534A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201080008193.5
申请日：2010-02-17
申请人： 克塞罗斯有限公司
发明人： 史蒂芬·德里克·詹金斯 , 威廉·乔治·韦斯特沃特
CPC分类号： D06F35/00
摘要： 本发明提供了用于清洗污染的基质的设备和方法，所述设备包括外壳，所述外壳包含了同心地设置在以可旋转的方式安装的圆筒形滚筒内的以可旋转的方式安装的圆筒形笼，滚筒的直径大于笼的直径，其中所述笼和所述滚筒同心地设置在具有比所述以可旋转的方式安装的滚筒大的直径的静止圆筒形滚筒内，其中所述外壳包括进入装置，从而允许进入所述圆筒形笼的内部，且其中所述以可旋转的方式安装的圆筒形笼和所述以可旋转的方式安装的圆筒形滚筒适于独立旋转。方法涉及以包括固体微粒清洗材料的配制剂处理润湿的基质来清洗污染的基质，所述配制剂无有机溶剂，且所述方法使用本发明的设备执行，且所述设备和方法特别地应用于清洗纺织织物。
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公开(公告)号：CN102482841A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080026653.7
申请日：2010-05-10
申请人： 克塞罗斯有限公司
发明人： 史蒂芬·德里克·詹金斯 , 威廉·乔治·韦斯特沃特
CPC分类号： D06L1/00 , C11D3/3715 , C11D3/3719 , C11D3/3726 , C11D3/3749 , C11D11/0017 , C11D11/0023 , D06L1/01
摘要： 本发明提供了一种用于清洁受污基材的方法，该方法包括使用如下制剂处理润湿的基材，所述制剂包括固体颗粒清洁材料，其中该制剂不含有机溶剂，该处理包括在至少一个密封容器中搅动所述基材和所述制剂。优选地，该密封的容器包括金属容器或由刚性或柔性塑料材料形成的容器。优选地，在例如转筒式干燥机的旋转设备中搅动所述至少一个容器。优选地，使该基材润湿，且该固体颗粒清洁材料包括多种聚合物颗粒，其包括至少一种其它的清洁剂，所述至少一种其它的清洁剂优选包括表面活性剂。最优选地，所述基材包括纺织纤维。通常所述聚合物颗粒包括尼龙或聚酯的颗粒。所得结果与当实施常规清洁方法时观察到的结果一致，且该方法具有显著的优点，即在成本和环境考虑因素的方面，得以避免使用溶剂而伴随的缺点。
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