添加氯化镁对高磁感取向硅钢硅酸镁底层质量影响的方法

    公开(公告)号:CN117187794A

    公开(公告)日:2023-12-08

    申请号:CN202311454655.1

    申请日:2023-11-03

    IPC分类号: C23C22/05

    摘要: 本发明涉及硅钢加工技术领域,尤其涉及添加氯化镁对高磁感取向硅钢硅酸镁底层质量影响的方法,将多个氧化镁配液分为三部分,通过配液结构向氧化镁配液内分别添加0.07%‑0.1%、4%‑4.8%和10%的氯化镁,检测高磁感取向硅钢成品的底层缺陷;该发明向氧化镁配液中添加微量氯化物,可减少底层膜中FeO的含量,增加SiO2反应物致密性,从而改善底层膜质量;确保成品底层表面缺陷较少、底层均匀性好、绝缘涂层附着性好,从而得到氯化镁添加剂对高磁感取向硅钢硅酸镁底层带来的质量影响。

    添加氯化镁对高磁感取向硅钢硅酸镁底层质量影响的方法

    公开(公告)号:CN117187794B

    公开(公告)日:2024-02-27

    申请号:CN202311454655.1

    申请日:2023-11-03

    IPC分类号: C23C22/05

    摘要: 本发明涉及硅钢加工技术领域,尤其涉及添加氯化镁对高磁感取向硅钢硅酸镁底层质量影响的方法,将多个氧化镁配液分为三部分,通过配液结构向氧化镁配液内分别添加0.07%‑0.1%、4%‑4.8%和10%的氯化镁,检测高磁感取向硅钢成品的底层缺陷;该发明向氧化镁配液中添加微量氯化物,可减少底层膜中FeO的含量,增加SiO2反应物致密性,从而改善底层膜质量;确保成品底层表面缺陷较少、底层均匀性好、绝缘涂层附着性好,从而得到氯化镁添加剂对高磁感取向硅钢硅酸镁底层带来的质量影响。