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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110945430A
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201880048645.9
申请日：2018-07-13
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 曝光装置(100)具备：主照明光源(2)，产生第1曝光光(L1A、L1B)；视场光阑(3)，形成有俯视时以第1轴线为中心交错排列的多个开口部；多个第1投影光学系统，将第1曝光光(L1A、L1B)的光像分别投影至被曝光体(6)；追加曝光用照明光源(12)，相对于主照明光源(2)在第1方向上相邻地配置，产生向光掩模(1)照射的第2曝光光(L2A、L2B)；以及校正曝光部。在所述光阑构件中，在第2方向上交替地形成有复合开口区域(rC)和单独开口区域(rS)，所述校正曝光部限定于光量校正区域将第2曝光光(L12A、L12B)照射于被曝光体(6)。
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公开(公告)号：CN110945430B
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN201880048645.9
申请日：2018-07-13
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 曝光装置(100)具备：主照明光源(2)，产生第1曝光光(L1A、L1B)；视场光阑(3)，形成有俯视时以第1轴线为中心交错排列的多个开口部；多个第1投影光学系统，将第1曝光光(L1A、L1B)的光像分别投影至被曝光体(6)；追加曝光用照明光源(12)，相对于主照明光源(2)在第1方向上相邻地配置，产生向光掩模(1)照射的第2曝光光(L2A、L2B)；以及校正曝光部。在所述光阑构件中，在第2方向上交替地形成有复合开口区域(rC)和单独开口区域(rS)，所述校正曝光部限定于光量校正区域将第2曝光光(L12A、L12B)照射于被曝光体(6)。
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公开(公告)号：CN109690402A
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：CN201780042752.6
申请日：2017-07-18
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 该光掩模用于具有由多透镜构成的投影透镜的扫描方式的投影曝光，其中，在包含所述多透镜的连接部(36a)在内的通过扫描曝光进行转印的区域(SA2)存在的所述光掩模的多个图案(Cnn)的线宽，是针对与在不包含所述连接部(36a)在内的通过扫描曝光进行转印的区域(SA1)存在的所述光掩模的所述图案(Cnn)相同的图案的线宽进行校正后的线宽。
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公开(公告)号：CN111566559B
公开(公告)日：2023-12-12
申请号：CN201880085631.4
申请日：2018-12-28
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 一种光掩模，通过多透镜的连接部(J1～J4)的扫描曝光而转印的光掩模的图案的线宽、以及通过多透镜的非连接部(L1～L3)的扫描曝光而转印的光掩模的图案的线宽中的至少一方是对设计线宽进行了修正的线宽，进行了修正的线宽是在扫描方向、以及与扫描方向正交的方向中的至少一个方向上阶段性地变化的线宽，阶段性地变化的线宽包含基于随机数的修正成分(R)，随机数基于对正弦波进行了频率调制的波形，或者基于白噪声。
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公开(公告)号：CN111566559A
公开(公告)日：2020-08-21
申请号：CN201880085631.4
申请日：2018-12-28
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 一种光掩模，通过多透镜的连接部(J1～J4)的扫描曝光而转印的光掩模的图案的线宽、以及通过多透镜的非连接部(L1～L3)的扫描曝光而转印的光掩模的图案的线宽中的至少一方是对设计线宽进行了修正的线宽，进行了修正的线宽是在扫描方向、以及与扫描方向正交的方向中的至少一个方向上阶段性地变化的线宽，阶段性地变化的线宽包含基于随机数的修正成分(R)，随机数基于对正弦波进行了频率调制的波形，或者基于白噪声。
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