公开(公告)号：CN104093676A

公开(公告)日：2014-10-08

申请号：CN201380008820.9

申请日：2013-02-08

申请人： 利兹大学

发明人： 琴·乔斯 ,  托尼-泰迪·费尔南德斯 ,  皮特-约翰·格兰特 ,  阿尼姆什·贾 ,  西卡·萨哈 ,  大卫-保罗·斯廷森

IPC分类号： C03C23/00 ,  C08J7/00 ,  G02B6/12

CPC分类号： C03C23/0055 ,  A61B5/1455 ,  C03C3/04 ,  C23C14/48 ,  G02B2006/12061 ,  G02B2006/12188 ,  Y10T428/31 ,  Y10T428/315

摘要： 本发明涉及一种包括离子注入层，例如阳离子注入层，的基板，其中，所述离子注入层的注入离子在比之前可能的深度明显更大的深度均匀分布。本发明还包括所述基板，其中所述基板是硅基基板，比如玻璃。本发明也可以包括将所述材料用作波导和/或将所述材料用于测量设备中。

公开(公告)号：CN108138310A

公开(公告)日：2018-06-08

申请号：CN201680059043.4

申请日：2016-08-12

申请人： 利兹大学

发明人： 贾克里希南·哈纳德拉帕恩 ,  琴·乔斯 ,  马修·默里

IPC分类号： C23C14/28 ,  C23C14/48 ,  C03C17/00

摘要： 本发明提供一种用于制造包括激光诱导的等离子体辅助改性层的衬底的方法和包括离子注入层的衬底。该方法包括在衬底存在下用来自激光器的入射辐射从第一靶和分开的第二靶烧蚀离子，由此将来自该第一靶和该第二靶的一定量的烧蚀的离子分别注入到该衬底中。将来自该第二靶的烧蚀的离子注入到来自该第一靶的注入离子之中的衬底中。与该第二靶的烧蚀离子(例如镱)相比，该第一靶的烧蚀的离子(例如铒)是不同的材料。所得到的离子注入层可以共同具有来自该第一靶和该第二靶两者的这些注入离子的基本上均匀的分布，并且可以处于比先前可能的深度显著更大的深度处，令人希望地达到该衬底内的界限分明且清晰的边界。

公开(公告)号：CN104093676B

公开(公告)日：2018-04-10

申请号：CN201380008820.9

申请日：2013-02-08

申请人： 利兹大学

发明人： 琴·乔斯 ,  托尼-泰迪·费尔南德斯 ,  皮特-约翰·格兰特 ,  阿尼姆什·贾 ,  西卡·萨哈 ,  大卫-保罗·斯廷森

IPC分类号： C03C23/00 ,  C08J7/00 ,  G02B6/12

CPC分类号： C03C23/0055 ,  A61B5/1455 ,  C03C3/04 ,  C23C14/48 ,  G02B2006/12061 ,  G02B2006/12188 ,  Y10T428/31 ,  Y10T428/315

摘要： 本发明涉及一种包括离子注入层，例如阳离子注入层的基板，其中，所述离子注入层的注入离子在比之前可能的深度明显更大的深度均匀分布。本发明还包括所述基板，其中所述基板是硅基基板，比如玻璃。本发明也可以包括将所述材料用作波导和/或将所述材料用于测量设备中。