公开(公告)号：CN112496293A

公开(公告)日：2021-03-16

申请号：CN202010959573.2

申请日：2020-09-14

Applicant: 加特可株式会社

Inventor： 筱原健

IPC: B22D17/14 ,  B22D17/20 ,  B22D17/22 ,  C22C21/02

Abstract: 一种铸造装置，抑制硅的偏析。铸造装置(1)具备铸造模具(2)和注射装置(5)。铸造模具(2)中，在将固定模(3)与可动模(4)接合的合模时，与阀体(10)的形状对应的腔室C(Ca、Cb)形成于固定模(3)与可动模(4)之间。注射装置(5)将高硅铝合金的熔液(M)经由设置于铸造模具(2)的连接路径(饼坯33，套管43，浇口44)向腔室C(Ca、Cb)内注射。在铸造模具(2)中，在腔室C(Ca、Cb)的区域开设有成为与连接路径的连通口的注射口(44a～44d)。腔室C(Ca、Cb)的区域中，注射口(44a～44d)周围的规定范围的区域的表面粗糙度比其它区域的表面粗糙度粗糙。

公开(公告)号：CN112496293B

公开(公告)日：2022-04-26

申请号：CN202010959573.2

申请日：2020-09-14

Applicant: 加特可株式会社

Inventor： 筱原健

IPC: B22D17/14 ,  B22D17/20 ,  B22D17/22 ,  C22C21/02

Abstract: 一种铸造装置，抑制硅的偏析。铸造装置(1)具备铸造模具(2)和注射装置(5)。铸造模具(2)中，在将固定模(3)与可动模(4)接合的合模时，与阀体(10)的形状对应的腔室C(Ca、Cb)形成于固定模(3)与可动模(4)之间。注射装置(5)将高硅铝合金的熔液(M)经由设置于铸造模具(2)的连接路径(饼坯33，套管43，浇口44)向腔室C(Ca、Cb)内注射。在铸造模具(2)中，在腔室C(Ca、Cb)的区域开设有成为与连接路径的连通口的注射口(44a～44d)。腔室C(Ca、Cb)的区域中，注射口(44a～44d)周围的规定范围的区域的表面粗糙度比其它区域的表面粗糙度粗糙。