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公开(公告)号：CN103792702A
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN201410031831.5
申请日：2014-01-23
申请人： 北京京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/13
摘要： 本发明涉及一种具有检测框的基板及其制造方法、检测装置，所述具有检测框的基板的特征在于，所述检测框是由导电材料构成的开路线框，且设置于所述基板的边缘。由此检测基板的破损状况，避免有破损的基板在甩胶过程中发生破碎。
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公开(公告)号：CN103792702B
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：CN201410031831.5
申请日：2014-01-23
申请人： 北京京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/13
摘要： 本发明涉及一种具有检测框的基板及其制造方法、检测装置，所述具有检测框的基板的特征在于，所述检测框是由导电材料构成的开路线框，且设置于所述基板的边缘。由此检测基板的破损状况，避免有破损的基板在甩胶过程中发生破碎。
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公开(公告)号：CN103913958A
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201410100776.0
申请日：2014-03-18
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明涉及光刻胶去除设备技术领域，公开了一种基板边缘光刻胶的去除装置。所述基板边缘光刻胶的去除装置包括喷洗装置，喷洗装置具有喷射光刻胶溶解剂的液体喷嘴和喷射气体的气体喷嘴，气体喷嘴喷出的气体将落于基板边缘的光刻胶溶解剂吹向基板外侧，气体喷嘴和液体喷嘴分别为狭缝状气体喷嘴和狭缝状液体喷嘴；狭缝状气体喷嘴喷出的气体落于基板表面形成第一狭缝区，狭缝状液体喷嘴喷出的液体落于基板表面形成第二狭缝区，第一狭缝区和第二狭缝区不相重叠。在本发明技术方案中，由于采用狭缝状气体喷嘴或狭缝状液体喷嘴，更易于气体或液体流畅喷出，不会导致光刻胶溶解剂溅射，避免了基板内部溅射光刻胶溶解剂而导致的基板不良现象的发生。
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公开(公告)号：CN202729846U
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：CN201220276843.0
申请日：2012-06-12
申请人： 北京京东方光电科技有限公司
发明人： 高安安
摘要： 本实用新型涉及显示技术领域，公开了一种微生物去除装置和基板清洗设备。该微生物去除装置包括进水口和出水口，并且进水口和出水口之间由水管相连；所述装置还包括发出的光线能够照射到水管的灭菌灯管。无论清洗玻璃基板的水是否为循环利用，本实用新型的微生物去除装置能够对清洗基板的水进行灭菌处理，清洗基板的水因经过灭菌处理而含有极少微生物甚至不含有微生物，因此能够有效改善基板的清洗效果。该基板清洗设备使用了上述的微生物去除装置，也可以有效改善基板的清洗效果。
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