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公开(公告)号：CN117055270A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202311107980.0
申请日：2023-08-30
申请人： 北京京东方技术开发有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1523 , G02F1/155 , G02F1/163
摘要： 本发明提供一种显示基板和显示装置，涉及显示技术领域，用于提升阅后即焚的文字或图片在传输和显示过程中的安全性，同时降低了实现阅后即焚功能的能耗和复杂度。所述显示基板包括：驱动背板和显示器件；所述显示器件包括依次层叠设置的第一电极、电致变色层、电解质层、离子存储层和第二电极；所述驱动背板与所述第一电极耦接，用于为所述第一电极提供驱动信号；所述显示基板包括显示状态和漂白状态，在所述显示状态所述电解质层的电子电导率小于在所述漂白状态所述电解质层的电子电导率。所述显示装置包括上述技术方案所提的显示基板。本发明提供的显示基板用于实现阅后即焚的显示功能。
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公开(公告)号：CN116913666A
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202311004405.8
申请日：2023-08-10
申请人： 北京京东方技术开发有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种电感、电感的制备方法以及射频器件，应用于无线通信技术领域，解决了现有技术中给电感施加大电流时，电感在连接过孔处容易出现放气、鼓泡以及烧毁等问题。电感包括：基板；阻挡层，设置于基板的一侧，阻挡层的材料为无机非金属材料；引线端，设置于阻挡层靠近基板的一侧；线圈结构，呈螺旋状，设置于阻挡层背离基板的一侧；其中，线圈结构具有第一端和第二端，且第一端位于最内侧，线圈结构的的第一端通过连接过孔电连接引线端；连接过孔至少贯穿阻挡层。
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公开(公告)号：CN118818752A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202411112017.6
申请日：2024-08-13
申请人： 北京京东方技术开发有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
发明人： 韩遇
摘要： 本发明提供了一种空间光调制装置、系统及方法，其中，空间光调制装置包括：驱动背板，包括衬底以及位于衬底上的驱动电路；至少一个调制单元，位于驱动背板上；各个调制单元包括第一子单元和位于第一子单元背离衬底一侧的第二子单元；第一子单元包括沿背离衬底间隔设置的第一控制部和可形变层；第二子单元包括沿背离衬底依次设置的压电层和第二控制部；压电层位于可形变层和第二控制部之间，且压电层和第二控制部在衬底上的正投影完全落入可形变层在衬底上的正投影的区域范围内；可形变层在第一驱动信号产生的静电力驱动下，沿靠近或者远离衬底的方向运动；压电层在第二驱动信号产生的逆压电效应的作用下，沿远离或者靠近衬底的方向发生形变。
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公开(公告)号：CN116277938A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310142465.X
申请日：2023-02-09
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： B29C64/20 , B29C64/135 , B29C64/209 , B29C64/232 , B29C64/236 , B29C64/255 , B29C64/264 , B29C64/268 , B33Y10/00 , B33Y30/00
摘要： 本申请公开了一种光固化3D打印机及打印方法，包括：工作台，工作台上设置有工作区域，工作区域用于在固化识浸没于树脂槽的光敏树脂内；打印头，打印头上设置有显示区域，显示区域用于向树脂槽提供预设图形的固化光，显示区域包括沿第一方向延伸的至少一个像素行；显示区域在第一方向上的长度大于或等于工作区域在第一方向上的长度，显示区域在第二方向上的宽度小于工作区域在第二方向上的宽度；二维移动组件，二维移动组件包括竖直移动机构和平移机构，竖直移动机构用于驱动工作台在竖直方向运动，平移机构用于驱动打印头在第二方向运动，以实现在工作区域内逐层固化光敏树脂，以形成三维实体。
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公开(公告)号：CN118363226A
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202310078705.4
申请日：2023-01-17
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/19
摘要： 本公开关于光调制装置及调光系统，涉及光电技术领域。光调制装置包括驱动背板和至少一个调制单元，驱动背板包括衬底和设于衬底一侧的驱动电路；调制单元设于驱动背板；调制单元包括沿远离衬底的方向间隔分布的固定部和反射部，且反射部与固定部交叠；反射部和固定部中至少一个与驱动电路连接，并能接收来自驱动电路的驱动信号；反射部的至少部分区域能够在反射部和固定部中至少一个接收到驱动信号时，沿靠近或远离衬底的方向运动。可实现对光线的调制。
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公开(公告)号：CN117270318A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202311229265.4
申请日：2023-09-22
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/20 , B29C64/129 , B29C64/282 , B33Y30/00
摘要： 本发明涉及一种光刻设备，包括：光敏材料槽，用于容纳液态的光敏材料；光源，包括沿第一方向并排设置的至少2个阵列光头，每个阵列光头包括沿第二方向间隔设置的多个LED发光器件，以及设置于LED发光器件的出光侧的微透镜阵列，微透镜阵列被配置为使得至少2个阵列光头的光线的聚焦位置在第一工作模式下重合，或使得至少2个阵列光头的光线的聚焦位置在第二工作模式下不重合，第一方向和第二方向均与液态的光敏材料的液面相平行，第一方向和第二方向相垂直；驱动结构，用于驱动光敏材料槽和/或光源，以使得光敏材料槽和光源相对移动，以使得光源对液态的光敏材料进行光固化。本发明还涉及一种光刻方法。
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公开(公告)号：CN117199142A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202311172033.X
申请日：2023-09-12
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L29/868 , H01L21/329
摘要： 本发明提供一种半导体器件及其制作方法、射频开关和显示装置，涉及显示技术领域，用于提升有源层的厚度，同时克服制作成本高，对设备要求高，以及增加氢爆风险等问题。所述半导体器件包括：PIN结构，第一连接电极和第二连接电极，所述PIN结构包括层叠设置的至少两层有源层，每层有源层均包括P型区、N型区、以及位于所述P型区和所述N型区之间的本征区，所述第一连接电极与位于P型区的有源层相耦接，所述第二连接电极与位于N型区的有源层相耦接，至少部分所述有源层包括导气通道。
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