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实用新型
一种喷嘴结构以及涂覆装置有权

公开(公告)号：CN207592088U

公开(公告)日：2018-07-10

申请号：CN201720798563.9

申请日：2017-07-03

申请人： 北京京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司

发明人： 喻绍明 , 孙晓涛 , 尹理才 , 马士超 , 栾凤

IPC分类号： B05B1/00 , B05B15/55 , G02F1/1335

摘要： 本实用新型涉及液晶显示技术领域，公开一种喷嘴结构以及涂覆装置，一种喷嘴结构，设置在内部容置有清洗液的清洗槽上方，包括壳体，壳体朝向清洗槽的一面上设有用于喷出液体的尖端以及用于容置清洗槽的两个侧壁的两个开槽，两个开槽位于尖端的外侧，在侧壁插入开槽时，尖端全部浸入清洗液。在上述喷嘴结构中，通过在喷嘴结构朝向清洗槽的一面上设置两个开槽，在需要对尖端进行清洗时，喷嘴结构下移，两个侧壁分别插入两个开槽内，尖端全部浸入清洗液内，避免了尖端浸泡不完全的情况，使得位于尖端外侧的液体全部溶解在清洗液内，清洗尖端的外表面，以使在长期使用时尖端的外表面始终保持清洁，减少下机处理时间，提高稼动。