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1.

发明授权
一种基于飞秒激光技术的阶跃型等栅距光栅及其制备方法有权

公开(公告)号：CN112558215B

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202011431427.9

申请日：2020-12-07

申请人： 北京信息科技大学(CN)

发明人： 祝连庆 , 何巍 , 袁宏伟 , 张雯 , 董明利 , 李红 , 何彦霖

IPC分类号： G02B6/02

摘要： 本发明提供一种基于飞秒激光技术的阶跃型等栅距光栅及其制备方法，该方法利用飞秒激光技术在光纤基底材料上刻写三个光栅周期的等距光栅，其中第三光栅周期>第二光纤周期>第一光纤周期，并且三个光线周期呈等差数列，形成阶跃型等栅距光栅，该阶跃型等栅距光栅制备工艺简单，成本低，并且可以精确的控制刻写工艺，控制光栅栅线间距，制备精密的阶跃型等栅距光纤，用于位移传感器。