公开(公告)号：CN105585653A

公开(公告)日：2016-05-18

申请号：CN201610110094.7

申请日：2016-02-27

申请人： 北京化工大学

发明人： 何勇 ,  朱鹏程 ,  聂俊

IPC分类号： C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  C08F8/32 ,  C08F8/30 ,  C08F2/48 ,  G03F7/038

CPC分类号： C08F212/14 ,  C08F2/48 ,  C08F8/30 ,  G03F7/0388 ,  C08F2220/1858 ,  C08F8/32

摘要： 一种可逆CO2固化光敏低聚物及其应用属光固化低聚物合成领域。本发明合成了一种带有仲胺基团的光固化低聚物，赋予了其CO2刺激响应性，相对于已有的带伯胺基团的CO2刺激响应低聚物，其稳定性更好，不易自聚合，易于储存。同时这种低聚物光固化性能好，光固化后有一定的机械强度，附着力好，可作为光固化主体树脂使用。本方法采用三步法合成，第一步为丙烯酸异辛酯(EHA)和对氯甲基苯乙烯的二元共聚合成长链的低聚物。第二步引入具有CO2刺激响应性质的仲胺基团，第三步利用仲胺基与甲基丙烯酸异氰基乙酯的迈克尔加成引入具有光固化性质的甲基丙烯酸基团。本发明通过控制低聚物主链上氨基含量，低聚物的分子量来调节体系的黏度实现不同程度的CO2刺激响应性，达到CO2响应固化的效果。