基于弹跳射线法的双站散射中心建模方法

    公开(公告)号:CN112799063A

    公开(公告)日:2021-05-14

    申请号:CN202011558711.2

    申请日:2020-12-25

    IPC分类号: G01S13/90

    摘要: 本发明涉及雷达技术领域,特别是一种基于弹跳射线法的双站散射中心建模方法。通过目标几何建模及剖分,形成目标网格模型,然后通过基于弹跳射线法的双站射线路径和散射场计算方法、双站射线位置等效方法、基于图像域射线管积分的三维双站ISAR图像快速生成方法和基于CLEAN的散射中心提取算法实现了目标双站散射中心模型的构建;整个建模过程效率高、散射机理清晰,构建出的散射中心模型与目标几何模型有着良好的对应关系,可为协同探测、网络化雷达、MIMO‑SAR等新体制雷达系统仿真、数据快速生成、目标检测识别等应用提供有力技术支撑。

    一种散射中心关联方法和装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113567949A

    公开(公告)日:2021-10-29

    申请号:CN202111013998.5

    申请日:2021-08-31

    IPC分类号: G01S7/41

    摘要: 本发明公开了一种散射中心关联方法和装置,涉及雷达技术领域、其中,本发明的散射中心关联方法包括:确定目标在多个视角下的散射中心的第一特征数据;将所述散射中心的第一特征数据映射至高维特征空间,以得到所述散射中心在所述高维特征空间的第二特征数据;基于谱多流形聚类算法对多个视角下散射中心的第二特征数据进行聚类,以得到散射中心的聚类结果。通过以上方法,解决了复杂目标的三维散射中心宽视角关联问题,为散射数据压缩与重构、目标特征提取与识别等应用提供技术支撑。

    基于弹跳射线法的双站散射中心建模方法

    公开(公告)号:CN112799063B

    公开(公告)日:2023-11-14

    申请号:CN202011558711.2

    申请日:2020-12-25

    IPC分类号: G01S13/90

    摘要: 本发明涉及雷达技术领域,特别是一种基于弹跳射线法的双站散射中心建模方法。通过目标几何建模及剖分,形成目标网格模型,然后通过基于弹跳射线法的双站射线路径和散射场计算方法、双站射线位置等效方法、基于图像域射线管积分的三维双站ISAR图像快速生成方法和基于CLEAN的散射中心提取算法实现了目标双站散射中心模型的构建;整个建模过程效率高、散射机理清晰,构建出的散射中心模型与目标几何模型有着良好的对应关系,可为协同探测、网络化雷达、MIMO‑SAR等新体制雷达系统仿真、数据快速生成、目标检测识别等应用提供有力技术支撑。

    一种散射中心距离向位置求解方法和装置

    公开(公告)号:CN114185044A

    公开(公告)日:2022-03-15

    申请号:CN202111464012.6

    申请日:2021-12-03

    IPC分类号: G01S13/90 G06T7/66 G06T7/70

    摘要: 本发明涉及一种散射中心距离向位置求解方法和装置,该方法的一个具体实施方式包括:获取目标的第一散射数据和第二散射数据,进而生成第一特定图像和第二特定图像;从第一特定图像中提取多个散射中心的初始参数;依据提取的任一散射中心的初始方位向位置数据和初始距离向位置数据,将第二特定图像中相应位置的像素值确定为该散射中心的第二复幅度;使用任一散射中心的第一复幅度、第二复幅度以及该散射中心的初始距离向位置数据确定该散射中心的距离向微调数据,结合该散射中心的距离向微调数据和初始距离向位置数据得到该散射中心的精确距离向位置数据。该实施方式能够解决现有技术中散射中心距离向位置参数难以精确估计提取的问题。

    一种散射中心关联方法和装置

    公开(公告)号:CN113567949B

    公开(公告)日:2023-06-20

    申请号:CN202111013998.5

    申请日:2021-08-31

    IPC分类号: G01S7/41

    摘要: 本发明公开了一种散射中心关联方法和装置,涉及雷达技术领域、其中,本发明的散射中心关联方法包括:确定目标在多个视角下的散射中心的第一特征数据;将所述散射中心的第一特征数据映射至高维特征空间,以得到所述散射中心在所述高维特征空间的第二特征数据;基于谱多流形聚类算法对多个视角下散射中心的第二特征数据进行聚类,以得到散射中心的聚类结果。通过以上方法,解决了复杂目标的三维散射中心宽视角关联问题,为散射数据压缩与重构、目标特征提取与识别等应用提供技术支撑。

    一种扩展俯仰双站角范围的顶帽结构

    公开(公告)号:CN115774245A

    公开(公告)日:2023-03-10

    申请号:CN202211512834.1

    申请日:2022-11-28

    IPC分类号: G01S7/40

    摘要: 本发明涉及一种扩展俯仰双站角范围的顶帽结构,包括圆盘和同轴设置且一体连接的多个圆台,多个圆台与圆盘同轴且位于最下侧的圆台的下底面与圆盘连接,位于最下侧的圆台的母线与圆盘的夹角为90°~92°之间,且由下至上每个圆台的母线与圆盘的夹角均依次增加,相邻两个圆台的母线与圆盘的夹角的增加不超度1°,每个圆台的下底面半径大于上底面的半径,相邻的两个圆台中,位于下侧的圆台的上底面半径等于位于上侧的圆台的下底面半径。采用将多个不同倾角、尺寸的圆台同轴堆叠并与不同半径的圆盘一体连接,能够在更大范围的俯仰双站角具有较强的电磁散射特性,可以实现更大俯仰双站角范围内的强散射特性控制,为后续双站目标模拟研究提供技术支撑。