一种外场靶标方位俯仰调节机构

    公开(公告)号:CN114184089A

    公开(公告)日:2022-03-15

    申请号:CN202111527439.6

    申请日:2021-12-14

    IPC分类号: F41J9/02 F41J1/10

    摘要: 本发明涉及一种外场靶标方位俯仰调节机构,包括进电底座、设置于所述进电底座上的汇流环、设置于所述汇流环上的第一配电箱、设置于所述第一配电箱一侧的安装架、与所述安装架顶部铰接的第二配电箱、与所述第二配电箱顶部相连的试验箱、设置于所述进电底座底部的万向轮以及设置于所述第一配电箱外侧和所述试验箱顶部之间的电动推杆。将第一配电箱作为整个结构的配重,安装在汇流环上,可以实现整体的360度无限制方位旋转;所述第二配电箱和所述安装架顶部铰接,通过所述电动推杆即可实现所述第二配电箱及所述试验箱的展开与折叠;实现了方位俯仰及旋转需求,且可快速折叠和展开,方便进行超高运输,且不会增加重量。

    一种核电磁脉冲信号模拟装置及方法

    公开(公告)号:CN117990995A

    公开(公告)日:2024-05-07

    申请号:CN202410141475.6

    申请日:2024-01-31

    IPC分类号: G01R29/08

    摘要: 本发明提供了一种核电磁脉冲信号模拟装置及方法,该装置包括:依次连接的电源、直流高压发生器、电容单元和环形天线,其中:所述电源用于给所述直流高压发生器供电,以使所述直流高压发生器对所述电容单元进行充电;所述直流高压发生器和所述电容单元之间设置有脉冲触发单元,以使所述电容单元进行快速充电和快速放电;所述电容单元用于产生核电磁脉冲信号;所述环形天线用于将所述核电磁脉冲信号进行投射,以得到用于实验的电磁脉冲环境。本方案,能够实现在体积有限的条件下对核电磁脉冲信号进行模拟,并满足移动性模拟的要求。

    一种外场靶标方位俯仰调节机构

    公开(公告)号:CN114184089B

    公开(公告)日:2023-05-12

    申请号:CN202111527439.6

    申请日:2021-12-14

    IPC分类号: F41J9/02 F41J1/10

    摘要: 本发明涉及一种外场靶标方位俯仰调节机构,包括进电底座、设置于所述进电底座上的汇流环、设置于所述汇流环上的第一配电箱、设置于所述第一配电箱一侧的安装架、与所述安装架顶部铰接的第二配电箱、与所述第二配电箱顶部相连的试验箱、设置于所述进电底座底部的万向轮以及设置于所述第一配电箱外侧和所述试验箱顶部之间的电动推杆。将第一配电箱作为整个结构的配重,安装在汇流环上,可以实现整体的360度无限制方位旋转;所述第二配电箱和所述安装架顶部铰接,通过所述电动推杆即可实现所述第二配电箱及所述试验箱的展开与折叠;实现了方位俯仰及旋转需求,且可快速折叠和展开,方便进行超高运输,且不会增加重量。

    一种面源黑体
    6.
    发明公开
    一种面源黑体 审中-实审

    公开(公告)号:CN115773822A

    公开(公告)日:2023-03-10

    申请号:CN202211457185.X

    申请日:2022-11-21

    IPC分类号: G01J5/53

    摘要: 本发明涉及黑体辐射技术领域,特别涉及一种面源黑体。本发明实施例提供了一种面源黑体,包括板体、控温体和控制器;所述控温体设置在所述板体一侧,所述控温体用于控制所述板体升温或制冷;所述控温体包括半导体;多个所述半导体均匀分布在所述板体的一侧;所述半导体与所述控制器连接,所述控制器用于显示并控制半导体的升温或制冷。本发明实施例提供了一种面源黑体,能够提供一种快速控温的面源黑体。