公开(公告)号：CN113522393B

公开(公告)日：2022-07-15

申请号：CN202110754366.8

申请日：2021-07-01

申请人： 北京科技大学

发明人： 彭学诚 ,  郭汉杰 ,  郭靖 ,  王子涵 ,  段生朝 ,  苏耀 ,  张明春 ,  张礼涛 ,  卢秀艳

IPC分类号： B01L3/04

摘要： 本发明涉及嵌套式平衡坩埚及控制方法，包括外置坩埚、内置坩埚和调节装置，其中，所述内置坩埚和外置坩埚为嵌套式设置，所述内置坩埚嵌套于所述外置坩埚的内部；所述外置坩埚包括外置坩埚盖和外置坩埚底座，所述外置坩埚盖和外置坩埚底座通过连接件进行连接；所述外置坩埚盖上设置有孔槽，所述孔槽用于放置调节装置；所述内置坩埚用于高温还原反应；所述外置坩埚用于外界隔绝空气进入所述嵌套式平衡坩埚；所述调节装置用于控制调节所述嵌套式平衡坩埚的气体进出。本发明的嵌套式平衡坩埚不但可与外界气体隔绝，而且还能与标准大气压保持一致，并在反应过程中保持还原性条件。

公开(公告)号：CN113522393A

公开(公告)日：2021-10-22

申请号：CN202110754366.8

申请日：2021-07-01

申请人： 北京科技大学

发明人： 彭学诚 ,  郭汉杰 ,  郭靖 ,  王子涵 ,  段生朝 ,  苏耀 ,  张明春 ,  张礼涛 ,  卢秀艳

IPC分类号： B01L3/04

摘要： 本发明涉及嵌套式平衡坩埚及控制方法，包括外置坩埚、内置坩埚和调节装置，其中，所述内置坩埚和外置坩埚为嵌套式设置，所述内置坩埚嵌套于所述外置坩埚的内部；所述外置坩埚包括外置坩埚盖和外置坩埚底座，所述外置坩埚盖和外置坩埚底座通过连接件进行连接；所述外置坩埚盖上设置有孔槽，所述孔槽用于放置调节装置；所述内置坩埚用于高温还原反应；所述外置坩埚用于外界隔绝空气进入所述嵌套式平衡坩埚；所述调节装置用于控制调节所述嵌套式平衡坩埚的气体进出。本发明的嵌套式平衡坩埚不但可与外界气体隔绝，而且还能与标准大气压保持一致，并在反应过程中保持还原性条件。