公开(公告)号：CN1315641C

公开(公告)日：2007-05-16

申请号：CN200410009912.1

申请日：2004-11-30

申请人： 北京科技大学

发明人： 邱宏 ,  陈晓白 ,  潘礼庆 ,  吴平 ,  王凤平

IPC分类号： B32B15/04

摘要： 本发明提供了一种镍铁薄膜及其制备方法。镍铁薄膜中镍含量在10至35原子百分比，其中面心立方结构所占的比例在0至100%之间可调。镍铁薄膜具有垂直于基片表面的柱状晶粒，晶粒在平行于基片表面方向上的宽度是5至500纳米。用物理气相沉积法制备不同成分的镍铁薄膜，用低于500度的热处理调节镍铁薄膜中面心立方结构所占比例。本发明的优点在于：通过对同一种成分的镍铁薄膜进行低温热处理，调节薄膜中不同结晶结构比例，获得相应的物理特性。由于温度控制容易，所以制备工艺稳定、制备方法简单。

公开(公告)号：CN1613641A

公开(公告)日：2005-05-11

申请号：CN200410009912.1

申请日：2004-11-30

申请人： 北京科技大学

发明人： 邱宏 ,  陈晓白 ,  潘礼庆 ,  吴平 ,  王凤平

IPC分类号： B32B15/04

摘要： 本发明提供了一种镍铁薄膜及其制备方法。镍铁薄膜中镍含量在10至35原子百分比，其中面心立方结构所占的比例在0至100％之间可调。镍铁薄膜具有垂直于基片表面的柱状晶粒，晶粒在平行于基片表面方向上的宽度是5至500纳米。用物理气相沉积法制备不同成分的镍铁薄膜，用低于500度的热处理调节镍铁薄膜中面心立方结构所占比例。本发明的优点在于：通过对同一种成分的镍铁薄膜进行低温热处理，调节薄膜中不同结晶结构比例，获得相应的物理特性。由于温度控制容易，所以制备工艺稳定、制备方法简单。