一种面向制造性能最优的光学优化方法

    公开(公告)号:CN115576102A

    公开(公告)日:2023-01-06

    申请号:CN202211280575.4

    申请日:2022-10-19

    IPC分类号: G02B27/00

    摘要: 一种面向制造性能最优的光学优化方法,包含以下过程:首先根据光学每个表面的制造偏差量计算像差贡献中心偏离矢量;其次根据像差贡献中心偏离矢量计算系统波像差,并剥离由于偏差项导致的系统波像差;再次,计算近轴主光线和边缘主光线的偏差项波像差,将二者绝对值求和作为制造误差导致的波像差目标优化函数。最后将该函数编写成宏文件,在光学优化设计时将其作为优化目标函数之一进行优化。本发明方法在优化目标中添加了由于制造误差作用下的像差函数,并以此为优化目标之一进行光学设计优化,实现面向制造性能而非标称性能最优的光学系统优化。

    一种基于单光子时域累计的广域高灵敏度探测系统

    公开(公告)号:CN115752763A

    公开(公告)日:2023-03-07

    申请号:CN202211435883.X

    申请日:2022-11-16

    IPC分类号: G01J11/00

    摘要: 本发明提供一种基于单光子时域累计的广域高灵敏度探测系统;在扫描成像模式下,智能综合处理单元驱动光学快扫组件进行正向扫描,完成星下点大范围区域内地物信息采集,并经光学镜头会聚成像,由光子计数焦面接收并形成表征地物信息的光子计数值矩阵,传输至智能综合处理单元,由智能综合处理单元完成重要目标或区域位置信息的提取,然后智能综合处理单元驱动光学快扫组件进行反向扫描,同样经光学镜头会聚成像、光子计数焦面形成光子计数值矩阵、传输至智能综合处理单元,智能综合处理单元根据正向扫描时提取的重要目标或区域位置信息,对重要目标或区域位置进行切片、形成重要目标或区域的图像信息。