公开(公告)号：CN114966926B

公开(公告)日：2023-08-04

申请号：CN202210539415.0

申请日：2022-05-17

申请人： 北方夜视技术股份有限公司

发明人： 张勤东 ,  赵恒 ,  汪云 ,  李耀斌 ,  曾进能 ,  张世超 ,  冯辉 ,  吴艳娟 ,  黄丽书 ,  张益铭

IPC分类号： G02B5/18

摘要： 本发明公开了一种大面积微纳叠层衍射光栅结构的制备方法，该方法是在已有的光栅结构基础上，对光栅的栅齿进行微纳结构图形的结构以及材料进行调控，能够在更大的带宽下获更高的衍射效率，对提高光栅的光能的利用率和夜视镜成像的灵敏度以及降低光栅的制备成本具有重要意义；同时，通过光刻胶作为掩膜，在掩膜层上外延光栅层再带胶剥离避开刻蚀的光栅制备方法能够解决现有方法中衍射光栅制备难度大、产量低、无法进行大规模生产的问题。本发明通过改变所制备的衍射光栅的材料、周期，进一步提高了光栅的光能利用率，在实现大面积高效率微纳衍射光栅的同时，保证该结构可以实现高效率、宽光谱的衍射，可以应用于夜视、光通信等领域。

公开(公告)号：CN114966926A

公开(公告)日：2022-08-30

申请号：CN202210539415.0

申请日：2022-05-17

申请人： 北方夜视技术股份有限公司

发明人： 张勤东 ,  赵恒 ,  汪云 ,  李耀斌 ,  曾进能 ,  张世超 ,  冯辉 ,  吴艳娟 ,  黄丽书 ,  张益铭

IPC分类号： G02B5/18

摘要： 本发明公开了一种大面积微纳叠层衍射光栅结构的制备方法，该方法是在已有的光栅结构基础上，对光栅的栅齿进行微纳结构图形的结构以及材料进行调控，能够在更大的带宽下获更高的衍射效率，对提高光栅的光能的利用率和夜视镜成像的灵敏度以及降低光栅的制备成本具有重要意义；同时，通过光刻胶作为掩膜，在掩膜层上外延光栅层再带胶剥离避开刻蚀的光栅制备方法能够解决现有方法中衍射光栅制备难度大、产量低、无法进行大规模生产的问题。本发明通过改变所制备的衍射光栅的材料、周期，进一步提高了光栅的光能利用率，在实现大面积高效率微纳衍射光栅的同时，保证该结构可以实现高效率、宽光谱的衍射，可以应用于夜视、光通信等领域。