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公开(公告)号：CN115220080B
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN202210760723.6
申请日：2022-06-29
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种粒子治疗中在线剂量监测方法及系统，能够在不侵入治疗束斑的同时，实时快速、无损的在线监控治疗装置的出束剂量，提高监测反应速率，预防安全隐患，并且同时适用于大剂量率治疗计划；与传统的通过电离室剂量监测方式相比，不会对用于治疗的有效束流部分产生扰动，既不会导致束流能量的下降，也不会使束流轮廓变宽，能够在无损治疗束流的情况下，实时在线监测治疗剂量；本发明采用半导体传感器，可实现快速测量，做出快速反应。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117082715B
公开(公告)日：2024-11-19
申请号：CN202310839484.8
申请日：2023-07-10
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种介质加载型谐振腔和对应的束流强度测量装置，属于束流测量技术领域，介质加载型谐振腔包括：腔体外壳、同轴内导体和介质盘；其中，中空的同轴内导体，设置于腔体外壳的内部且与腔体外壳同轴，用于作为等效电感；介质盘，填充设置于腔体外壳和同轴内导体之间，用于作为等效电容；当同轴内导体的中空部通入束团时，在等效电容与等效电感构成的谐振回路作用下激励起谐振场；通过改变介质盘的厚度和/或同轴内导体的长度能够调节谐振回路对应的谐振频率。本方案通过改变介质盘的厚度和/或同轴内导体的长度调节谐振频率，进而使腔体小型化，由此解决当束流频率在百MHz级别时现有圆柱腔尺寸过大的技术问题。
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公开(公告)号：CN118857191A
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202410845478.8
申请日：2024-06-27
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种微波电子枪中场致发射电子生成位姿的获取方法，属于电子元器件技术领域，所述定位方法包括：测量场致发射电子在荧光屏上的目标实际位姿；所述场致发射电子在微波电子枪内部生成和出射，并经预设磁场路径聚焦投射到所述荧光屏上；建立在所述微波电子枪内生成场致发射电子的初始可能位姿与到达所述荧光屏时的目标参考位姿之间映射关系；利用所述场致发射电子的每个所述初始可能位姿和所述映射关系，得到每个所述场致发射电子到达所述荧光屏时的目标参考位姿；从多个所述初始可能位姿中选出最准确地所述场致发射电子的生成位姿，可精确地确定场致发射电流在微波电子枪内生成时的具体位置和出射相位。
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公开(公告)号：CN117464023A
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202311340999.X
申请日：2023-10-17
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种基于冷阴极CT的3D打印装置及方法。该3D打印装置包括：打印机本体、垂直方向X射线检测模块、水平方向X射线检测模块、连接框架和系统控制模块；垂直方向X射线检测模块和水平方向X射线检测模块均包括冷阴极球管和X射线成像探测器；垂直方向X射线检测模块通过3D打印机连接框架设置在打印机本体的正上方，发射并采集垂直方向穿透目标物体的X射线；水平方向X射线检测模块嵌入设置在打印机本体上，发射并采集水平方向穿透目标物体的X射线。实现了一种非接触式、快速高效的在线检测装置，实时检测金属3D打印过程中产生缺陷和误差，提升质量控制和工艺的有益效果。
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公开(公告)号：CN117082715A
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202310839484.8
申请日：2023-07-10
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种介质加载型谐振腔和对应的束流强度测量装置，属于束流测量技术领域，介质加载型谐振腔包括：腔体外壳、同轴内导体和介质盘；其中，中空的同轴内导体，设置于腔体外壳的内部且与腔体外壳同轴，用于作为等效电感；介质盘，填充设置于腔体外壳和同轴内导体之间，用于作为等效电容；当同轴内导体的中空部通入束团时，在等效电容与等效电感构成的谐振回路作用下激励起谐振场；通过改变介质盘的厚度和/或同轴内导体的长度能够调节谐振回路对应的谐振频率。本方案通过改变介质盘的厚度和/或同轴内导体的长度调节谐振频率，进而使腔体小型化，由此解决当束流频率在百MHz级别时现有圆柱腔尺寸过大的技术问题。
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公开(公告)号：CN115220080A
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202210760723.6
申请日：2022-06-29
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种粒子治疗中在线剂量监测方法及系统，能够在不侵入治疗束斑的同时，实时快速、无损的在线监控治疗装置的出束剂量，提高监测反应速率，预防安全隐患，并且同时适用于大剂量率治疗计划；与传统的通过电离室剂量监测方式相比，不会对用于治疗的有效束流部分产生扰动，既不会导致束流能量的下降，也不会使束流轮廓变宽，能够在无损治疗束流的情况下，实时在线监测治疗剂量；本发明采用半导体传感器，可实现快速测量，做出快速反应。
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