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公开(公告)号：CN113740269A
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN202010470128.X
申请日：2020-05-28
申请人： 华中科技大学
摘要： 本发明属于光学测量相关技术领域，并公开了一种高压光谱椭偏测量装置及测量方法。该装置包括入射起偏光路、反射检偏光路和装夹单元，入射起偏光路中设置有第一微透镜，用于将直径为毫米级的平行光束汇聚成直径为微米级的光斑并照射在待测样品表面；反射检偏光路中设置有第二微透镜，用于将装夹单元中待测样品表面反射的光线准直为平行反射光；装夹单元中设置有高压加载模块，该高压加载模块中包括相对设置的金刚石压砧，测量过程中，待测样品装夹在相对设置的金刚石压砧之间，通过金刚石压砧在待测样品上施加不同的压力，改变待测样品的受力状态，以此改变反射光的偏振态信息。通过本发明，实现待测样品压强依赖性光学常数的准确获取。
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公开(公告)号：CN113740269B
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202010470128.X
申请日：2020-05-28
申请人： 华中科技大学
摘要： 本发明属于光学测量相关技术领域，并公开了一种高压光谱椭偏测量装置及测量方法。该装置包括入射起偏光路、反射检偏光路和装夹单元，入射起偏光路中设置有第一微透镜，用于将直径为毫米级的平行光束汇聚成直径为微米级的光斑并照射在待测样品表面；反射检偏光路中设置有第二微透镜，用于将装夹单元中待测样品表面反射的光线准直为平行反射光；装夹单元中设置有高压加载模块，该高压加载模块中包括相对设置的金刚石压砧，测量过程中，待测样品装夹在相对设置的金刚石压砧之间，通过金刚石压砧在待测样品上施加不同的压力，改变待测样品的受力状态，以此改变反射光的偏振态信息。通过本发明，实现待测样品压强依赖性光学常数的准确获取。
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公开(公告)号：CN112179874B
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202011047182.X
申请日：2020-09-29
申请人： 华中科技大学
摘要： 本发明属于光电测量相关技术领域，其公开了一种发光材料激子取向的测量方法及装置，所述方法包括以下步骤：(1)构建发光材料分辨光致发光谱的正向发光计算模型，所述正向发光计算模型首先将激子跃迁的量子力学描述等效为微腔结构中电偶极子辐射的经典电磁理论描述，然后基于电偶激子辐射模型及微腔相干模型，并采用传输矩阵形式，利用菲涅尔系数在所有涉及的界面上进行传输及反射以求解出电磁场，进而得到发光材料角分辨的出射光谱；(2)采用发光材料激子取向的测量装置测量材料的角分辨光谱，基于测量得到的角分辨光谱，结合正向发光计算模型进行逆向反演以得到材料的分子取向。本发明能对掺杂材料体系的分子取向进行准确测量与表征。
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公开(公告)号：CN112179874A
公开(公告)日：2021-01-05
申请号：CN202011047182.X
申请日：2020-09-29
申请人： 华中科技大学
摘要： 本发明属于光电测量相关技术领域，其公开了一种发光材料激子取向的测量方法及装置，所述方法包括以下步骤：(1)构建发光材料分辨光致发光谱的正向发光计算模型，所述正向发光计算模型首先将激子跃迁的量子力学描述等效为微腔结构中电偶极子辐射的经典电磁理论描述，然后基于电偶激子辐射模型及微腔相干模型，并采用传输矩阵形式，利用菲涅尔系数在所有涉及的界面上进行传输及反射以求解出电磁场，进而得到发光材料角分辨的出射光谱；(2)采用发光材料激子取向的测量装置测量材料的角分辨光谱，基于测量得到的角分辨光谱，结合正向发光计算模型进行逆向反演以得到材料的分子取向。本发明能对掺杂材料体系的分子取向进行准确测量与表征。
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