一种基于白光干涉定位原理的比较仪及其检测方法

    公开(公告)号:CN102878933A

    公开(公告)日:2013-01-16

    申请号:CN201210328100.8

    申请日:2012-09-07

    IPC分类号: G01B11/02

    摘要: 本发明公开了一种基于白光干涉定位原理的比较仪及其测量方法,该比较仪包括测量探针、测量物镜、干涉显微镜、垂直扫描工作台、滑块、CCD成像单元、立柱、移动量检测单元以及水平工作台,其中垂直扫描工作台设置在立柱上,并由粗驱机构上下驱动;干涉显微镜和CCD成像单元固定在设置于垂直扫描工作台的滑块上,并由精驱机构上下驱动;移动量检测单元对滑块的移动量进行检测输出;测量探针可绕枢轴转动地设置在与干涉显微镜镜体竖直相连的支撑杆上,用于对被测对象相接触;测量物镜用于对光进行汇聚并形成干涉条纹。通过本发明,能够充分利用白光干涉定位的高精度特性来获得高度测量结果,同时具备结构简单、便于操作,以及测量精度高和成本低等特点。

    一种基于显微白光干涉的纳米探针装置

    公开(公告)号:CN101975873B

    公开(公告)日:2012-09-26

    申请号:CN201010295132.3

    申请日:2010-09-29

    IPC分类号: G01Q20/02

    摘要: 一种基于显微白光干涉的纳米探针装置,包括干涉显微镜主体、参考物镜、反射镜、测量物镜、微悬臂探针和CCD探测器。干涉显微镜主体内部的白光经过分光后,一部分经过测量物镜会聚到微悬臂探针针尖顶部的反射镜上并被反射,进入干涉显微镜主体内部;另一部分通过参考物镜投射到反射镜上并被反射回干涉显微镜主体内部,与由微悬臂探针针尖顶部反射镜反射的白光汇聚,产生的白光干涉条纹。干涉条纹经干涉显微镜主体内部放大镜放大后,在CCD探测器成像平面上成像。该方法具有探针具有结构简单、能实现多探针同时测量、测量精度高和成本低的特点,可用于微米级位移、表面形貌与结构等的测量,分辨率可达1纳米。

    一种基于显微白光干涉的纳米探针装置

    公开(公告)号:CN101975873A

    公开(公告)日:2011-02-16

    申请号:CN201010295132.3

    申请日:2010-09-29

    IPC分类号: G01Q20/02

    摘要: 一种基于显微白光干涉的纳米探针装置,包括干涉显微镜主体、参考物镜、反射镜、测量物镜、微悬臂探针和CCD探测器。干涉显微镜主体内部的白光经过分光后,一部分经过测量物镜会聚到微悬臂探针针尖顶部的反射镜上并被反射,进入干涉显微镜主体内部;另一部分通过参考物镜投射到反射镜上并被反射回干涉显微镜主体内部,与由微悬臂探针针尖顶部反射镜反射的白光汇聚,产生的白光干涉条纹。干涉条纹经干涉显微镜主体内部放大镜放大后,在CCD探测器成像平面上成像。该方法具有探针具有结构简单、能实现多探针同时测量、测量精度高和成本低的特点,可用于微米级位移、表面形貌与结构等的测量,分辨率可达1纳米。

    一种多探针平面度检测仪及其检测方法

    公开(公告)号:CN102620690B

    公开(公告)日:2014-05-07

    申请号:CN201210094438.1

    申请日:2012-04-01

    IPC分类号: G01B11/30

    摘要: 本发明公开了一种多探针平面度检测仪及其相应的检测方法,该检测仪包括测量探针阵列、测量物镜、干涉显微镜、CCD成像装置、垂直扫描工作台和水平工作台,其中干涉显微镜和CCD成像装置设置在垂直扫描工作台上,分别用于形成光的干涉条纹和干涉条纹的成像;测量探针阵列包括多个探针,这些探针各自的前端具有探针针尖,后端具有平面反射镜;测量物镜固定安装在干涉显微镜下部并处于探针平面反射镜上方,用于对光线进行汇聚;水平工作台设置在测量探针阵列下方用于放置被测样品。按照本发明,能够实现多探针同时测量,充分利用光干涉的高精度特性并有效避免测量时被测表面材料光学性能的影响,相应能够实现结构简单、测量精度高和成本低的效果。

    一种多探针平面度检测仪及其检测方法

    公开(公告)号:CN102620690A

    公开(公告)日:2012-08-01

    申请号:CN201210094438.1

    申请日:2012-04-01

    IPC分类号: G01B11/30

    摘要: 本发明公开了一种多探针平面度检测仪及其相应的检测方法,该检测仪包括测量探针阵列、测量物镜、干涉显微镜、CCD成像装置、垂直扫描工作台和水平工作台,其中干涉显微镜和CCD成像装置设置在垂直扫描工作台上,分别用于形成光的干涉条纹和干涉条纹的成像;测量探针阵列包括多个探针,这些探针各自的前端具有探针针尖,后端具有平面反射镜;测量物镜固定安装在干涉显微镜下部并处于探针平面反射镜上方,用于对光线进行汇聚;水平工作台设置在测量探针阵列下方用于放置被测样品。按照本发明,能够实现多探针同时测量,充分利用光干涉的高精度特性并有效避免测量时被测表面材料光学性能的影响,相应能够实现结构简单、测量精度高和成本低的效果。

    一种基于白光干涉定位原理的比较仪及其检测方法

    公开(公告)号:CN102878933B

    公开(公告)日:2015-03-11

    申请号:CN201210328100.8

    申请日:2012-09-07

    IPC分类号: G01B11/02

    摘要: 本发明公开了一种基于白光干涉定位原理的比较仪及其测量方法,该比较仪包括测量探针、测量物镜、干涉显微镜、垂直扫描工作台、滑块、CCD成像单元、立柱、移动量检测单元以及水平工作台,其中垂直扫描工作台设置在立柱上,并由粗驱机构上下驱动;干涉显微镜和CCD成像单元固定在设置于垂直扫描工作台的滑块上,并由精驱机构上下驱动;移动量检测单元对滑块的移动量进行检测输出;测量探针可绕枢轴转动地设置在与干涉显微镜镜体竖直相连的支撑杆上,用于对被测对象相接触;测量物镜用于对光进行汇聚并形成干涉条纹。通过本发明,能够充分利用白光干涉定位的高精度特性来获得高度测量结果,同时具备结构简单、便于操作,以及测量精度高和成本低等特点。