一种半导体硅片清洗釜
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104851827B

    公开(公告)日:2017-06-06

    申请号:CN201510255079.7

    申请日:2015-05-19

    摘要: 本发明公开了一种半导体硅片清洗釜,包括釜体及与釜体密封连接釜盖,还包括插入釜体内部的清洗管,清洗管外端设有截止阀,在截止阀与釜体之间的清洗管上连接超生波发生器,在釜体壁上均布硅片吸盘连通孔,在釜体的外壁设有与硅片吸盘连通孔连通的负压连接通道,在釜体的内壁设有与硅片吸盘连通孔连通的硅片吸盘,硅片吸盘包括一端与硅片吸盘连通孔连通的连接管,连接管的另一端连接均布吸附微孔的吸附板,还包括受阀门控制的釜体排气口。本发明具有操作简单、清洗效果好、清洗效率高等特点。

    一种半导体硅片清洗釜
    3.
    实用新型

    公开(公告)号:CN204577408U

    公开(公告)日:2015-08-19

    申请号:CN201520322497.9

    申请日:2015-05-19

    摘要: 本实用新型公开了一种半导体硅片清洗釜,包括釜体及与釜体密封连接釜盖,还包括插入釜体内部的清洗管,清洗管外端设有截止阀,在截止阀与釜体之间的清洗管上连接超生波发生器,在釜体壁上均布硅片吸盘连通孔,在釜体的外壁设有与硅片吸盘连通孔连通的负压连接通道,在釜体的内壁设有与硅片吸盘连通孔连通的硅片吸盘,硅片吸盘包括一端与硅片吸盘连通孔连通的连接管,连接管的另一端连接均布吸附微孔的吸附板,还包括受阀门控制的釜体排气口。本实用新型具有操作简单、清洗效果好、清洗效率高等特点。

    一种适用于清洗釜的硅片夹持装置

    公开(公告)号:CN204544933U

    公开(公告)日:2015-08-12

    申请号:CN201520202937.7

    申请日:2015-04-07

    IPC分类号: B08B13/00 B25B11/00

    摘要: 本实用新型涉及一种适用于清洗釜的硅片夹持装置,包括固定用的底座,所述底座上方设置有过渡板,所述过渡板上方设置有上板,所述底座下方设置有通气孔,所述底座内设置有通气槽,所述通气槽贯穿至所述底座的上表面,且所述通气孔和所述通气槽相连通,所述通气槽贯穿到底座上表面;所述过渡板上设置有多个贯穿孔,所述顶端的上板上设置有多个吸附孔,所述过渡板上的贯穿孔和所述上板上的吸附孔对应设置,所述吸附孔通过所述贯穿孔与所述通气槽相连通。本实用新型设计巧妙,结构简单,改善清洗效果,提高了生产效率,同时满足加工不同规格的硅片,硅片的安装、更换方便快捷。