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公开(公告)号：CN117843010A
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202410017628.6
申请日：2024-01-05
Applicant: 华南理工大学
IPC: C01B39/02
Abstract: 本发明公开了一种纯相DDR型沸石分子筛膜及其制备方法。该方法首先在载体上沉积一层连续的CHA型分子筛晶种层，然后将预涂CHA型晶种层的载体放入合成液中，在一定的水热条件下进行二次生长从而得到高质量的DDR型沸石膜。与同质DDR型晶种相比，通过使用异质CHA型晶种有效地避免了DDR型沸石膜在合成过程中SGT和DOH等杂晶的生成，使DDR型沸石膜保持极高的相纯度，并且还大幅拓宽了DDR型沸石分子筛膜合成条件范围和重现性，具有很好的工业应用价值。
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