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公开(公告)号：CN101358373A
公开(公告)日：2009-02-04
申请号：CN200810198407.4
申请日：2008-09-08
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明涉及有机介电材料及其制备技术，具体是指一种高介电常数三嗪类纳米有机介电薄膜的制备方法。该制备方法采用三电极工作方式进行有机镀膜，具体步骤及其工艺条件如下：(1)选择铝、铜、镍其中的一种为金属衬底；(2)选择一种含有0.5～10mmol/l的三嗪类有机化合物盐和一种0.05～3mol/l的碱性支持电解质的混合溶液为电解质溶液；(3)选择镀膜方式为恒电流或恒电位法。本发明制备的三嗪类纳米有机薄膜介电常数达15～300，并与金属基结合牢固、均匀致密，可为未来电子工业提供高介电常有机材料。制备方法简便、快速、成本低，能够高效的大面积制备纳米有机介电薄膜，有助于其工业化生产，应用范围广。
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公开(公告)号：CN101476142A
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200810220287.3
申请日：2008-12-24
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明涉及金属表面处理和改性技术领域，特别是指一种于镁、铜或不锈钢金属表面，具有超疏水功能特性的有机纳米薄膜的制备方法。该制备方法采用化学刻蚀与有机镀膜相结合的制备方法，有机镀膜方式可选用恒电位法、恒电流或循环伏安法，镀膜时间为1～60min。本发明制造的致密有机纳米薄膜与蒸馏水的静态接触角大于150°，证实金属表面超疏水功能特性，可用于以大面积金属表面的超疏水改性，特别适用于以金属表面的防污、防锈，可用于微量液体无损耗运输，精密光学器件模具表面处理以增强脱模效果，拓宽金属材料的使用领域。本发明工艺简单、便于操作、效率高、制备周期短、设备要求低，成本低，厚度可控，易于工业化生产制备。
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公开(公告)号：CN101476142B
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN200810220287.3
申请日：2008-12-24
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明涉及金属表面处理和改性技术领域，特别是指一种于镁、铜或不锈钢金属表面，具有超疏水功能特性的有机纳米薄膜的制备方法。该制备方法采用化学刻蚀与有机镀膜相结合的制备方法，有机镀膜方式可选用恒电位法、恒电流或循环伏安法，镀膜时间为1～60min。本发明制造的致密有机纳米薄膜与蒸馏水的静态接触角大于150°，证实金属表面超疏水功能特性，可用于以大面积金属表面的超疏水改性，特别适用于以金属表面的防污、防锈，可用于微量液体无损耗运输，精密光学器件模具表面处理以增强脱模效果，拓宽金属材料的使用领域。本发明工艺简单、便于操作、效率高、制备周期短、设备要求低，成本低，厚度可控，易于工业化生产制备。
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