公开(公告)号：CN1867580A

公开(公告)日：2006-11-22

申请号：CN200480030585.6

申请日：2004-09-03

Applicant: 协和发酵工业株式会社 ,  四国技术网络株式会社

Inventor： 根本尚夫 ,  山内雅博 ,  莫野宏子 ,  加藤泰己 ,  山崎基生 ,  须泽敏行

IPC: C07K5/08 ,  C07C233/47 ,  C07C323/52 ,  C07D207/404 ,  A61K9/107 ,  A61K9/127 ,  A61K47/42

CPC classification number: C07D207/452 ,  A61K47/00 ,  A61K47/54 ,  A61K47/6911 ,  B82Y5/00 ,  C07C323/60 ,  C07F9/10 ,  C07K5/0202

Abstract: 本发明的目的在于提供用于制备药物载体等的表面修饰剂的化合物或其盐，含有该化合物或其盐的微粒等。本发明提供了选自两性物质和疏水性物质的被修饰物质直接或经过间隔基团被下式(1)表示的甘油衍生物修饰的化合物或其盐，其中，R表示含有与选自两性物质和疏水性物质的被修饰物质或间隔基团具有反应性的基团的残基，或是表示含有能够转变为具有反应性基的基团的残基，所述间隔基团用于将选自两性物质和疏水性物质的被修饰物质结合至R－X上；n表示大于等于3的整数；且X表示可具有n个下列结构的残基。

公开(公告)号：CN1867580B

公开(公告)日：2010-09-29

申请号：CN200480030585.6

申请日：2004-09-03

Applicant: 协和发酵麒麟株式会社 ,  四国技术网络株式会社

Inventor： 根本尚夫 ,  山内雅博 ,  莫野宏子 ,  加藤泰己 ,  山崎基生 ,  须泽敏行

IPC: C07K5/08 ,  C07C233/47 ,  C07C323/52 ,  C07D207/404 ,  A61K9/107 ,  A61K9/127 ,  A61K47/42

CPC classification number: C07D207/452 ,  A61K47/00 ,  A61K47/54 ,  A61K47/6911 ,  B82Y5/00 ,  C07C323/60 ,  C07F9/10 ,  C07K5/0202

Abstract: 本发明的目的在于提供用于制备药物载体等的表面修饰剂的化合物或其盐，含有该化合物或其盐的微粒等。本发明提供了选自两性物质和疏水性物质的被修饰物质直接或经过间隔基团被下式(1)表示的甘油衍生物修饰的化合物或其盐：其中，R表示含有与选自两性物质和疏水性物质的被修饰物质或间隔基团具有反应性的基团的残基，或是表示含有能够转变为具有反应性基的基团的残基，所述间隔基团用于将选自两性物质和疏水性物质的被修饰物质结合至R-X上；n表示大于等于3的整数；且X表示可具有n个下列结构的残基。