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公开(公告)号：CN117265493A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202311202783.7
申请日：2023-09-18
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明公开了一种易换料易维护磁控溅射系统：通过可活动的磁控溅射靶位活动结构，使磁控溅射靶位可以在磁控溅射主腔体和维护用小腔体之间自由切换，且能够互相隔离，从而可以在不让磁控溅射主腔体破真空的情况下，在维护用小腔体中对磁控溅射靶位进行换料和维护，还可配合主腔清扫杆处理腔内掉样和污渍，显著降低了换料和维护所需时间，使得单位时间制样效率得到提高。
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