公开(公告)号：CN118732401A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202411060886.9

申请日：2024-08-05

申请人： 南京宽能半导体有限公司

发明人： 谢慧青 ,  李宜哲 ,  吴昱萱

IPC分类号： G03F7/16 ,  B05C5/02 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  B05C11/00 ,  B05C13/02

摘要： 本发明涉及光刻胶涂覆技术领域，且公开了一种光刻胶涂覆装置，包括架体，所述架体的上表面固定连接有工作台，工作台的底部固定连接有电动推杆一，电动推杆一伸缩部的一端穿过工作台固定连接有安装架二，安装架二内固定连接有电机二，电机二输出轴的一端穿过安装架二固定连接有转盘，转盘的上表面开设有用于放置硅片的放置槽。本发明不仅能够快速的覆盖住硅片，从而可以增加光刻胶涂覆的效率，并且可以避免光刻胶在涂覆的过程中出现涂覆不完全的情况，而且能够方便工作人员对涂覆完成的硅片进行拿取，提高了涂覆装置使用的便捷性，还能够使在旋转辊内部流动的光刻胶得到加热，避免光刻胶发生凝结，提高了涂覆装置的使用效果。

公开(公告)号：CN118559896A

公开(公告)日：2024-08-30

申请号：CN202410840396.4

申请日：2024-06-27

申请人： 南京宽能半导体有限公司

发明人： 谢慧青 ,  李宜哲 ,  吴昱萱

IPC分类号： B28D5/02 ,  B28D7/02 ,  B28D7/00

摘要： 本发明公开了一种减震式双冷媒循环降温的晶圆切割装置，涉及晶圆切割技术领域，包括主体、气泵和水泵，所述主体的一侧设置有保护盖，所述保护盖的内部设置有刀片，所述保护盖和刀片之间设置有驱动电机，所述主体控制进行水平位移，所述保护盖的下端表面高于刀片的下端表面，所述主体的内部下方设置有载板，所述载板用于对晶圆进行固定，保护盖和刀片的间隙中填充有冷却液，冷却液主要位于刀片的两侧，冷却液的设置用于限制刀片在旋转期间出现偏转。本发明通过在刀片的外侧填充冷却液，当刀片发生震动即出现偏转时，冷却液流会对刀片产生额外的力矩，从而增加阻力，使得刀片的偏转角度减小，进而减小刀片对晶圆加工时产生的震动。