一种单极性纳米流体忆阻器模型的构建方法

    公开(公告)号:CN117473926A

    公开(公告)日:2024-01-30

    申请号:CN202311383172.7

    申请日:2023-10-24

    Abstract: 本发明公开了一种单极性纳米流体忆阻器模型的构建方法,该方法包括构建电流‑电压方程,电流‑电压方程由状态变量与最大电流项构成,用于描述忆阻器的电流与状态变量和施加电压之积成正比;构建状态变量方程:状态变量方程由幅值增长项与窗口函数构成,用于描述状态变量变化速度正比于状态变量与施加电压平方之积。本发明结构简单,可以描述连续型忆阻器,窗口函数灵活、适应性强。

    一种基于AAO薄膜的纳米流体忆阻器及其制备方法

    公开(公告)号:CN119546175A

    公开(公告)日:2025-02-28

    申请号:CN202411568385.1

    申请日:2024-11-05

    Abstract: 本发明公开了一种基于AAO薄膜的纳米流体忆阻器及其制备方法,具体为:玻璃衬底上设置第一铜电极,第一铜电极上设置PDMS储液池,PDMS储液池内部设置AAO薄膜和CuSO4电解液,PDMS储液池顶部设置第二铜电极。制备方法为:在玻璃衬底中央位置放置第一铜电极,将胶状PDMS滴涂至第一铜电极前端;利用打孔器在固化的PDMS层上进行打孔,得到PDMS储液池;将AAO薄膜转移至PDMS储液池内,使其下表面贴合第一铜电极前端,并在PDMS储液池中加注满CuSO4电解液;在PDMS储液池上端放置第二铜电极,利用PDMS对PDMS储液池进行覆盖密封。本发明中的忆阻器具有工作电压小、功耗低、制备简单、稳定性好的优点。

    一种基于PDMS纳米通道的流体忆阻器及其制备方法

    公开(公告)号:CN119136648A

    公开(公告)日:2024-12-13

    申请号:CN202411166085.0

    申请日:2024-08-23

    Abstract: 本发明公开了一种基于PDMS纳米通道的流体忆阻器及其制备方法,该流体忆阻器包括PDMS基底、顶盖玻璃、储液池、电极,其中所述PDMS基底上有多纳米通道阵列,玻璃上的储液池通过多条纳米通道相连通,电极放置在储液池中,在储液池中注入液体。制备方法为:首先采用基于裂纹的无光刻方法制备聚苯乙烯纳米通道模板;然后通过Smooth‑on 305塑料模板将纳米通道图案复制在PDMS上,得到PDMS纳米通道;利用激光切割技术在玻璃上打两个小孔,作为器件的储液池;最后将加工好纳米通道的PDMS基底与玻璃封装,得到基于PDMS纳米通道的流体忆阻器。本发明流体忆阻器具有制备简单、稳定性好、功耗低的优势。

Patent Agency Ranking