基于穆勒矩阵的硅片反射光偏振应力检测装置及方法

    公开(公告)号:CN114252185B

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202111478359.6

    申请日:2021-12-06

    Abstract: 本发明公开了一种基于穆勒矩阵的硅片反射光偏振应力检测装置及方法,包括连续激光器、扩束镜、偏振片、分光镜1/4波片片、CCD、二维平移台、PC机组成。所述激光器为1550nm连续激光器,输出的连续激光先后通过扩束镜和偏振片进入分光镜,分光镜的反射光经过波片后垂直射入样品,样品的反射光先后通过波片、分光镜和偏振片最终进入CCD,CCD拍得样品偏振图像并送入PC机,进行灰度处理、穆勒矩阵计算、中值滤波后得到相位差图像。根据分析滤波后相位差图像,分析样品内部的应力情况。

    基于穆勒矩阵的硅片反射光偏振应力检测装置及方法

    公开(公告)号:CN114252185A

    公开(公告)日:2022-03-29

    申请号:CN202111478359.6

    申请日:2021-12-06

    Abstract: 本发明公开了一种基于穆勒矩阵的硅片反射光偏振应力检测装置及方法,包括连续激光器、扩束镜、偏振片、分光镜1/4波片片、CCD、二维平移台、PC机组成。所述激光器为1550nm连续激光器,输出的连续激光先后通过扩束镜和偏振片进入分光镜,分光镜的反射光经过波片后垂直射入样品,样品的反射光先后通过波片、分光镜和偏振片最终进入CCD,CCD拍得样品偏振图像并送入PC机,进行灰度处理、穆勒矩阵计算、中值滤波后得到相位差图像。根据分析滤波后相位差图像,分析样品内部的应力情况。

Patent Agency Ranking