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1.

发明公开
具有选择性体积照射和光场检测的优化容积成像审中-实审

公开(公告)号：CN109074674A

公开(公告)日：2018-12-21

申请号：CN201780025414.1

申请日：2017-02-24

申请人： 南加州大学

发明人： T.V.张 , S.马达恩 , D.B.霍兰德 , S.E.弗雷泽

IPC分类号： G06T15/00 , G03H1/00 , G03H1/22 , H04N13/30

摘要： 一方面，涉及利用使用光场检测的选择性体积照射(SVI)优化容积成像的系统和技术包括：光源，被配置为发射照射光，该照射光经由照射光路传播以照射三维(3D)样本；以及光学系统，相对于光源被布置以接收来自被照射的3D样本的光场，其中该光场经由检测光路传播；其中光源、光学系统或这两者可配置为基于将要被照射的3D样本和将要应用的光场检测(LFD)处理来选择3D样本的3D受限照射的体积。

2.

发明授权
具有选择性体积照射和光场检测的优化容积成像有权

公开(公告)号：CN109074674B

公开(公告)日：2023-10-24

申请号：CN201780025414.1

申请日：2017-02-24

申请人： 南加州大学

发明人： T.V.张 , S.马达恩 , D.B.霍兰德 , S.E.弗雷泽

IPC分类号： G06T15/00 , G03H1/00 , G03H1/22 , H04N13/30

摘要： 一方面，涉及利用使用光场检测的选择性体积照射(SVI)优化容积成像的系统和技术包括：光源，被配置为发射照射光，该照射光经由照射光路传播以照射三维(3D)样本；以及光学系统，相对于光源被布置以接收来自被照射的3D样本的光场，其中该光场经由检测光路传播；其中光源、光学系统或这两者可配置为基于将要被照射的3D样本和将要应用的光场检测(LFD)处理来选择3D样本的3D受限照射的体积。