公开(公告)号：CN109440065B

公开(公告)日：2020-07-14

申请号：CN201811330711.X

申请日：2018-11-09

申请人： 南昌大学

发明人： 罗岚 ,  徐福民 ,  郑仁奎 ,  刘勇 ,  徐贵兴 ,  郭锐

IPC分类号： C23C14/16 ,  C23C14/35 ,  C23C14/02

摘要： 一种钨化钼耐蚀薄膜的制备方法，包括：1）将镁合金置于气氛炉中，控制气氛炉炉温160~200℃，保温1~2小时；2）磁控溅射工作腔抽至背底真空度为2×10‑7 Torr，溅射气体为氩气且溅射时真空度不低于3×10‑3 Torr；调节Mo和W溅射电压在300~500V，控制薄膜中Mo1‑xWx中X值在0.2~0.8之间；镁合金待镀件转动速度为6RPM；控制溅射时间在20min~1500min，直至薄膜厚度达设计要求。本发明制作操作简单、易于实现工艺控制自动化大规模连续生产；制备的Mo1‑XWX(0.2

公开(公告)号：CN109440065A

公开(公告)日：2019-03-08

申请号：CN201811330711.X

申请日：2018-11-09

申请人： 南昌大学

发明人： 罗岚 ,  徐福民 ,  郑仁奎 ,  刘勇 ,  徐贵兴 ,  郭锐

IPC分类号： C23C14/16 ,  C23C14/35 ,  C23C14/02

摘要： 一种钨化钼耐蚀薄膜的制备方法，包括：1）将镁合金置于气氛炉中，控制气氛炉炉温160~200℃，保温1~2小时；2）磁控溅射工作腔抽至背底真空度为2×10-7 Torr，溅射气体为氩气且溅射时真空度不低于3×10-3 Torr；调节Mo和W溅射电压在300~500V，控制薄膜中Mo1-xWx中X值在0.2~0.8之间；镁合金待镀件转动速度为6RPM；控制溅射时间在20min~1500min，直至薄膜厚度达设计要求。本发明制作操作简单、易于实现工艺控制自动化大规模连续生产；制备的Mo1-XWX(0.2