-
公开(公告)号：CN112569911A
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN202011309310.3
申请日：2020-11-20
申请人： 南昌航空大学
IPC分类号： B01J20/26 , B01J20/30 , C02F1/28 , C02F101/22 , C02F101/20
摘要： 一种以季铵盐为单体合成VTA‑Cr(VI)‑IIPs吸附剂的方法，涉及一种合成Cr(VI)‑IIPs吸附剂的方法。本发明是要解决现有的离子印迹聚合物对于六价铬阴离子的吸附选择性差的技术问题。本发明的方法所用功能单体苄乙基三甲基氯化铵(VTA)携带正电荷，可以快速吸引六价铬阴离子团，同时它具有稳定符合六价铬阴离子团的匹配空腔，可以和六价铬阴离子稳固结合；除此之外，此材料能稳定存在于空气和水体中，且耐高温。本发明合成了一种以季铵盐作为功能单体合成的VTA‑Cr(VI)‑IIPs吸附剂，并能够快速高效并选择性去除水中的六价铬阴离子。
-
公开(公告)号：CN106279534B
公开(公告)日：2018-02-09
申请号：CN201610648720.8
申请日：2016-08-10
申请人： 南昌航空大学
IPC分类号： C08F234/00 , C08F222/14 , C08J9/26 , B01J20/26 , B01J20/30 , C02F1/28
摘要： 本发明提供了一种含氧金属阴离子印迹聚合物的制备方法：将氮杂环类功能单体和含氧金属阴离子溶解，得到单体‑印迹离子混合溶液；将交联剂和引发剂溶解，得到添加剂混合溶液；在惰性气氛下，将所述单体‑印迹离子混合溶液和添加剂混合溶液进行沉淀反应，得到包含含氧金属阴离子的印迹聚合物；脱去所述包含含氧金属阴离子的印迹聚合物中的含氧金属阴离子，得到含氧金属阴离子印迹聚合物。本发明提供的含氧金属阴离子印迹聚合物具有多孔的骨架结构、比表面积为434.04m2/g；此外，选择性和循环稳定性能均有所提升，进一步的提高了含氧金属阴离子印迹聚合物的吸附性能，最高吸附量可达55mg/g。
-
公开(公告)号：CN112569911B
公开(公告)日：2022-07-05
申请号：CN202011309310.3
申请日：2020-11-20
申请人： 南昌航空大学
IPC分类号： B01J20/26 , B01J20/30 , C02F1/28 , C02F101/22 , C02F101/20
摘要： 一种以季铵盐为单体合成VTA‑Cr(VI)‑IIPs吸附剂的方法，涉及一种合成Cr(VI)‑IIPs吸附剂的方法。本发明是要解决现有的离子印迹聚合物对于六价铬阴离子的吸附选择性差的技术问题。本发明的方法所用功能单体苄乙基三甲基氯化铵(VTA)携带正电荷，可以快速吸引六价铬阴离子团，同时它具有稳定符合六价铬阴离子团的匹配空腔，可以和六价铬阴离子稳固结合；除此之外，此材料能稳定存在于空气和水体中，且耐高温。本发明合成了一种以季铵盐作为功能单体合成的VTA‑Cr(VI)‑IIPs吸附剂，并能够快速高效并选择性去除水中的六价铬阴离子。
-
公开(公告)号：CN106279534A
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201610648720.8
申请日：2016-08-10
申请人： 南昌航空大学
IPC分类号： C08F234/00 , C08F222/14 , C08J9/26 , B01J20/26 , B01J20/30 , C02F1/28
CPC分类号： C08F234/00 , B01J20/268 , C02F1/285 , C08J9/26 , C08J2345/00 , C08F2222/1013
摘要： 本发明提供了一种含氧金属阴离子印迹聚合物的制备方法：将氮杂环类功能单体和含氧金属阴离子溶解，得到单体-印迹离子混合溶液；将交联剂和引发剂溶解，得到添加剂混合溶液；在惰性气氛下，将所述单体-印迹离子混合溶液和添加剂混合溶液进行沉淀反应，得到包含含氧金属阴离子的印迹聚合物；脱去所述包含含氧金属阴离子的印迹聚合物中的含氧金属阴离子，得到含氧金属阴离子印迹聚合物。本发明提供的含氧金属阴离子印迹聚合物具有多孔的骨架结构、比表面积为434.04m2/g；此外，选择性和循环稳定性能均有所提升，进一步的提高了含氧金属阴离子印迹聚合物的吸附性能，最高吸附量可达55mg/g。
-
-
-
搜索结果
4 条记录 (耗时 0.022 秒)