在非二维初始结构上光刻生成目标结构的方法和装置

    公开(公告)号:CN109997081B

    公开(公告)日:2021-12-14

    申请号:CN201780061245.7

    申请日:2017-08-04

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 本发明涉及一种用于通过借助于至少一个光刻光束(060)曝光光刻胶(100)在非二维初始结构(010)上光刻生成目标结构(030)的方法和装置。该方法包括以下步骤:a)检测非二维初始结构(010)的表面的构形(020);b)将至少一个测试参数用于光刻光束(060)并确定光刻光束(060)与初始结构(010)的相互作用以及由此引起的光刻光束(060)和/或要生成的目标结构(030)的变化;c)确定光刻光束(060)的至少一个校正参数,使得由光刻光束(060)与初始结构(010)的相互作用引起的光刻光束(060)和/或目标结构(030)的变化减少;以及d)通过使用用于光刻光束的至少一个校正参数(060)借助于至少一个光刻光束(060)曝光光刻胶(100)在初始结构(010)上生成期望的目标结构(030)。该方法和装置使得能够在已经存在的非二维初始结构(010)上以高精度光刻生成高分辨率的三维目标结构(030)。

    用于产生光学系统的方法以及光学系统

    公开(公告)号:CN109983381A

    公开(公告)日:2019-07-05

    申请号:CN201780067313.0

    申请日:2017-11-02

    IPC分类号: G02B6/42 G02B6/12 G02B6/138

    摘要: 本发明涉及光学系统以及用于产生该光学系统的方法。该光学系统具有至少两个分开的光学部件(10、11)和两个光学部件(10、11)之间的至少一个光学连接。在此的方法包括以下步骤:a)提供第一光学部件(10)和第二、分开的光学部件(11),其中第一光学部件(10)具有第一波束轮廓(30),并且第二光学部件(11)具有第二波束轮廓(31);b)通过指定第一光学部件(10)和第二光学部件(11)的布置以及至少一个波束成形元件(40、41)的形状和目标位置的布置来设计光学系统,其中波束成形元件(40、41)固定地连接到第一光学部件(10)和/或第二光学部件(11),其中波束成形元件(40、41)被指定为改变第一波束轮廓(30)和/或第二波束轮廓(31),使得在第一光学部件(10)和第二光学部件(11)的定位之后,形成第一光学部件(10)和第二光学部件(11)之间的光学耦合;c)使用在目标位置处在原位的三维直写光刻方法来产生波束成形元件(40、41),由此获得由波束成形元件(40、41)补充的至少一个光学部件(15、16);以及d)将由波束成形元件(40、41)补充的光学部件(15、16)定位和固定在公共基板(50)上,由此获得光学系统。采用本方法产生的光学系统可以优选地被用于光学数据转移、测量技术和传感器、生命科学和医学技术,或光学信号处理。

    光学波导部件及其生产方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116209931A

    公开(公告)日:2023-06-02

    申请号:CN202180064858.2

    申请日:2021-09-24

    IPC分类号: G02B6/10

    摘要: 本发明涉及一种光学波导部件及其生产方法。该光学波导部件包括:‑至少一个光学波导结构(10,11,12,13),其呈第一三维自由形态结构的形式,并且具有被至少一种包层材料(30)包围的至少一个第一部分(10a,10e,10f,10g,10i,10j);·‑至少一个引导结构(20),其呈在该至少一个第一部分(10a,10e,10f,10g,10i,10j)的附近的第二三维自由形态结构的形式;以及·‑至少一种包层材料(30),其至少部分地填充该至少一个第一部分(10a,10e,10f,10g,10i,10j)与该至少一个引导结构(20)之间的空间区域,其中,该至少一个引导结构(20)定义了一个区域,在该区域内,该至少一个第一部分(10a,10e,10f,10g,10i,10j)被至少一种包层材料(30)包围,并且其中,光学波导结构(10,11,12,13)的至少一个第二部分(10b,10c,10d,10h)或与光学波导结构(10,11,12,13)相邻的至少一个光学部件(200)不被该至少一种包层材料(30)包围。

    光场的光耦合和模式选择性分离或叠加

    公开(公告)号:CN115413326A

    公开(公告)日:2022-11-29

    申请号:CN202180024938.5

    申请日:2021-04-08

    IPC分类号: G02B27/12 G02B6/27

    摘要: 本发明涉及一种用于光耦合和用于光场的模式选择性分离或叠加的装置、其用途以及用于产生基于波导的光耦合元件(10)的方法,该基于波导的光耦合元件设计为用于在光学组件(400)的另外的光耦合点(410)处模式选择性分离或叠加光场。该装置包括至少一个具有至少三个光耦合点(100、370、380)的基于波导的光耦合元件(10),以及具有至少一个另外的光耦合点(410)的至少一个光学组件(400),其中至少一个光耦合点(100、370、380)光学连接到至少一个另外的光耦合点(410),并且其中基于波导的光耦合元件(10)设计成在与第一光耦合点(100)和第二光耦合点(370)相关联的本征模(120、260)之间以及与第一光耦合点(100)和第三光耦合点(380)相关联的本征模(130、280)之间高效且双向地传输光。

    光耦合点的定位
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115210622A

    公开(公告)日:2022-10-18

    申请号:CN202180019068.2

    申请日:2021-03-04

    摘要: 本发明涉及用于定位光耦合点(11)的方法和装置(200),以及用于在光耦合点(11)处产生微结构(100)的方法。用于定位光耦合点(11)的方法包括以下步骤:a)提供光学部件(10),所述光学部件包括光耦合点(11),光耦合点具有相互作用区域(15),所述相互作用区域(15)位于由光学部件(10)包围的体积的外部;b)在生产区域(120)中产生光辐射,生产区域(120)至少部分地与光耦合点(11)的相互作用区域(15)重叠,光被施加到位于生产区域(120)的介质(19),所述介质(19)改变光,从而产生光辐射;c)在捕获区域(130)中捕获产生的光辐射的至少一部分,捕获区域(130)至少部分地与光耦合点(11)的相互作用区域(15)重叠,并且确定产生的光辐射的捕获部分的空间分辨分布;以及d)根据所确定的产生的光辐射的捕获部分的空间分辨分布来确定光耦合点(11)的位置,产生的光辐射或产生的光辐射的至少一部分通过光耦合点(11)被捕获。因此,光耦合点(11)可以被精确地定位,相对定位公差优于1μm。因此,可以通过与光学部件(10)的光学连接实现低耦合损耗,并且可以将微结构(100)精确地放置在光耦合点(11)处。

    用于产生光学系统的方法以及光学系统

    公开(公告)号:CN109983381B

    公开(公告)日:2021-06-22

    申请号:CN201780067313.0

    申请日:2017-11-02

    IPC分类号: G02B6/42 G02B6/12 G02B6/138

    摘要: 本发明涉及光学系统以及用于产生该光学系统的方法。该光学系统具有至少两个分开的光学部件(10、11)和两个光学部件(10、11)之间的至少一个光学连接。在此的方法包括以下步骤:a)提供第一光学部件(10)和第二、分开的光学部件(11),其中第一光学部件(10)具有第一波束轮廓(30),并且第二光学部件(11)具有第二波束轮廓(31);b)通过指定第一光学部件(10)和第二光学部件(11)的布置以及至少一个波束成形元件(40、41)的形状和目标位置的布置来设计光学系统,其中波束成形元件(40、41)固定地连接到第一光学部件(10)和/或第二光学部件(11),其中波束成形元件(40、41)被指定为改变第一波束轮廓(30)和/或第二波束轮廓(31),使得在第一光学部件(10)和第二光学部件(11)的定位之后,形成第一光学部件(10)和第二光学部件(11)之间的光学耦合;c)使用在目标位置处在原位的三维直写光刻方法来产生波束成形元件(40、41),由此获得由波束成形元件(40、41)补充的至少一个光学部件(15、16);以及d)将由波束成形元件(40、41)补充的光学部件(15、16)定位和固定在公共基板(50)上,由此获得光学系统。采用本方法产生的光学系统可以优选地被用于光学数据转移、测量技术和传感器、生命科学和医学技术,或光学信号处理。

    在非二维初始结构上光刻生成目标结构的方法和装置

    公开(公告)号:CN109997081A

    公开(公告)日:2019-07-09

    申请号:CN201780061245.7

    申请日:2017-08-04

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 本发明涉及一种用于通过借助于至少一个光刻光束(060)曝光光刻胶(100)在非二维初始结构(010)上光刻生成目标结构(030)的方法和装置。该方法包括以下步骤:a)检测非二维初始结构(010)的表面的构形(020);b)将至少一个测试参数用于光刻光束(060)并确定光刻光束(060)与初始结构(010)的相互作用以及由此引起的光刻光束(060)和/或要生成的目标结构(030)的变化;c)确定光刻光束(060)的至少一个校正参数,使得由光刻光束(060)与初始结构(010)的相互作用引起的光刻光束(060)和/或目标结构(030)的变化减少;以及d)通过使用用于光刻光束的至少一个校正参数(060)借助于至少一个光刻光束(060)曝光光刻胶(100)在初始结构(010)上生成期望的目标结构(030)。该方法和装置使得能够在已经存在的非二维初始结构(010)上以高精度光刻生成高分辨率的三维目标结构(030)。