公开(公告)号：CN101683638B

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN200910208130.3

申请日：2006-01-31

申请人： 可乐丽股份有限公司

发明人： 物江宏幸 ,  保田浩三 ,  柳川幸弘 ,  木村修 ,  阿部良夫 ,  斋藤坚

IPC分类号： B05C1/02 ,  B05C11/04 ,  G03B21/625

CPC分类号： G03B21/625 ,  B05C1/083 ,  G03B21/10

摘要： 在由菲涅耳透镜片(1)、双凸透镜片(2)等多种光学片组合而成的透射型屏幕(3A)中，在光学片(1，2)的至少一个表面上设置厚度为0.3nm或以上、10nm或以下的摩擦降低剂(20)。作为该摩擦降低剂(20)的涂布装置，在具有转印辊(31)、向转印辊(31)供给涂布液(20)的涂布液供给装置(32)、以及调节附着于转印辊(31)上的涂布液(20)的厚度的刮离装置(35)的涂布装置(30)中，转印辊(31)的表面粗度Ra(JIS B0601-1982)为0.01-1μm。由此可以防止摩擦降低剂导致的杂散光的发生或外观不良。

公开(公告)号：CN101683638A

公开(公告)日：2010-03-31

申请号：CN200910208130.3

申请日：2006-01-31

申请人： 可乐丽股份有限公司

发明人： 物江宏幸 ,  保田浩三 ,  柳川幸弘 ,  木村修 ,  阿部良夫 ,  斋藤坚

IPC分类号： B05C1/02 ,  B05C11/04 ,  G03B21/62

CPC分类号： G03B21/625 ,  B05C1/083 ,  G03B21/10

摘要： 在由菲涅耳透镜片(1)、双凸透镜片(2)等多种光学片组合而成的透射型屏幕(3A)中，在光学片(1，2)的至少一个表面上设置厚度为0.3nm或以上、10nm或以下的摩擦降低剂(20)。作为该摩擦降低剂(20)的涂布装置，在具有转印辊(31)、向转印辊(31)供给涂布液(20)的涂布液供给装置(32)、以及调节附着于转印辊(31)上的涂布液(20)的厚度的刮离装置(35)的涂布装置(30)中，转印辊(31)的表面粗度Ra(JIS B0601-1982)为0.01-1μm。由此可以防止摩擦降低剂导致的杂散光的发生或外观不良。

公开(公告)号：CN101151578A

公开(公告)日：2008-03-26

申请号：CN200680010124.1

申请日：2006-01-31

申请人： 可乐丽股份有限公司

发明人： 物江宏幸 ,  保田浩三 ,  柳川幸弘 ,  木村修 ,  阿部良夫 ,  斋藤坚

IPC分类号： G03B21/62 ,  B05C1/02

摘要： 在由菲涅耳透镜片(1)、双凸透镜片(2)等多种光学片组合而成的透射型屏幕(3A)中，在光学片(1，2)的至少一个表面上设置厚度为0.3nm或以上、10nm或以下的摩擦降低剂(20)。作为该摩擦降低剂(20)的涂布装置，在具有转印辊(31)、向转印辊(31)供给涂布液(20)的涂布液供给装置(32)、以及调节附着于转印辊(31)上的涂布液(20)的厚度的刮离装置(35)的涂布装置(30)中，转印辊(31)的表面粗度Ra(JISB0601－1982)为0.01－1μm。由此可以防止摩擦降低剂导致的杂散光的发生或外观不良。