公开(公告)号：CN115287612B

公开(公告)日：2024-05-24

申请号：CN202210706659.3

申请日：2022-06-21

申请人： 台州学院 ,  台州学院温岭研究院

发明人： 张平 ,  孙含影 ,  应普友 ,  吴建波 ,  黄敏 ,  杨涛 ,  林长红 ,  弗拉基米尔.列夫琴科

IPC分类号： C23C14/35 ,  C23C14/06 ,  C23C14/54

摘要： 本发明公开了一种HiPIMS双靶共溅射制备WS2‑Ti复合涂层的装置和方法，该装置包括真空腔体、样品转架、主脉冲电源、从脉冲电源、WS2靶材、Ti靶材和时序控制器，样品转架设置于真空腔体内，WS2靶材和Ti靶材分别固定于真空腔体，WS2靶材和Ti靶材呈八字分布，WS2靶材和Ti靶材分别正对样品转架；主脉冲电源与Ti靶材电连接，从脉冲电源与WS2靶材电连接，时序控制器分别与主脉冲电源和从脉冲电源电连接，时序控制器控制主脉冲电源和从脉冲电源的脉冲时序。该装置可控制两套HiPIMS脉冲电源的脉冲时序，可以有效避免脉冲放电重叠，实现双靶稳定工作，利用该装置制备WS2‑Ti复合涂层，可以改善其耐摩擦磨损性能。

公开(公告)号：CN115287612A

公开(公告)日：2022-11-04

申请号：CN202210706659.3

申请日：2022-06-21

申请人： 台州学院 ,  台州学院温岭研究院

发明人： 张平 ,  孙含影 ,  应普友 ,  吴建波 ,  黄敏 ,  杨涛 ,  林长红 ,  弗拉基米尔.列夫琴科

IPC分类号： C23C14/35 ,  C23C14/06 ,  C23C14/54

摘要： 本发明公开了一种HiPIMS双靶共溅射制备WS2‑Ti复合涂层的装置和方法，该装置包括真空腔体、样品转架、主脉冲电源、从脉冲电源、WS2靶材、Ti靶材和时序控制器，样品转架设置于真空腔体内，WS2靶材和Ti靶材分别固定于真空腔体，WS2靶材和Ti靶材呈八字分布，WS2靶材和Ti靶材分别正对样品转架；主脉冲电源与Ti靶材电连接，从脉冲电源与WS2靶材电连接，时序控制器分别与主脉冲电源和从脉冲电源电连接，时序控制器控制主脉冲电源和从脉冲电源的脉冲时序。该装置可控制两套HiPIMS脉冲电源的脉冲时序，可以有效避免脉冲放电重叠，实现双靶稳定工作，利用该装置制备WS2‑Ti复合涂层，可以改善其耐摩擦磨损性能。