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公开(公告)号：CN102323717A
公开(公告)日：2012-01-18
申请号：CN201110166166.7
申请日：2011-06-21
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本发明属于聚合物光波导技术领域，具体涉及一种新型负性高含氟芳香-脂肪负性光刻胶组合物，按重量计，其由54.5～73wt％的高含氟芳香-脂肪环氧树脂、5.5～7.3wt％的光致产酸物和20～40wt％的有机溶剂组成，它可以通过改变光致产酸物的种类来调整光刻胶组合物的曝光波长。同时由于在氟化的环氧树脂中，大部分氢原子被氟原子取代，在通讯波段吸收较小，因此该光刻胶组合物可以在紫外波长200～400nm的范围内曝光并成像制作聚合物光波导器件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101900941A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN201010251529.2
申请日：2010-08-12
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本发明属于聚合物光波导材料与器件技术领域，具体涉及一种可用于制备聚合物光波导器件的高含氟负性光刻胶组合物，其由高含氟环氧树脂、光致产酸物和有机溶剂组成。高含氟环氧树脂为一种或几种结构式如(1)所示的化合物，其中，Rf1和Rf2分别独立地表示全氟化、半氟化或者未氟化的脂族基团，n为5～20的整数，m为0～20的整数。通过改变光致产酸物的种类来调整光刻胶组合物的曝光波长，同时由于在氟化的环氧树脂中，部分氢原子被氟原子取代，在通讯波段吸收较小，因此该光刻胶组合物可以在紫外波长200～400nm的范围内曝光并成像制作聚合物光波导器件。
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公开(公告)号：CN101246310B
公开(公告)日：2010-11-03
申请号：CN200810050520.8
申请日：2008-03-19
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本发明属于光波导器件领域，具体涉及一种可作为聚合物光波导材料的负性含氟光刻胶组合物及该组合物在制备聚合物光波导器件中的应用。按重量计，负性含氟光刻胶组合物中含有5.0～7.0wt％的光致产酸物、50.0～75.0wt％的如式(1)所示的含氟环氧树脂和20.0～45.0wt％的溶剂，R为氯化(CCl2)或未氯化(CH2)的甲基，n值为1～8。由于在在含氟环氧树脂中，部分氢原子被氟原子取代，因此在通讯波段吸收较小，可直接作为聚合物光波导材料用于光波导器件的制作。该光刻胶组合物可以在紫外波长200～400nm范围内曝光并成像制作光波导器件，并可以通过改变光致产酸物的种类来调整曝光波长。
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公开(公告)号：CN101246310A
公开(公告)日：2008-08-20
申请号：CN200810050520.8
申请日：2008-03-19
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本发明属于光波导器件领域，具体涉及一种可作为聚合物光波导材料的负性含氟光刻胶组合物及该组合物在制备聚合物光波导器件中的应用。按重量计，负性含氟光刻胶组合物中含有5.0～7.0wt％的光致产酸物、50.0～75.0wt％的如式(1)所示的含氟环氧树脂和20.0～45.0wt％的溶剂，R为氯化(CCl2)或未氯化(CH2)的甲基，n值为1～8。由于在在含氟环氧树脂中，部分氢原子被氟原子取代，因此在通讯波段吸收较小，可直接作为聚合物光波导材料用于光波导器件的制作。该光刻胶组合物可以在紫外波长200～400nm范围内曝光并成像制作光波导器件，并可以通过改变光致产酸物的种类来调整曝光波长。
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公开(公告)号：CN102323717B
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN201110166166.7
申请日：2011-06-21
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本发明属于聚合物光波导技术领域，具体涉及一种新型负性高含氟芳香-脂肪负性光刻胶组合物，按重量计，其由54.5～73wt％的高含氟芳香-脂肪环氧树脂、5.5～7.3wt％的光致产酸物和20～40wt％的有机溶剂组成，它可以通过改变光致产酸物的种类来调整光刻胶组合物的曝光波长。同时由于在氟化的环氧树脂中，大部分氢原子被氟原子取代，在通讯波段吸收较小，因此该光刻胶组合物可以在紫外波长200～400nm的范围内曝光并成像制作聚合物光波导器件。
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公开(公告)号：CN101900941B
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN201010251529.2
申请日：2010-08-12
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本发明属于聚合物光波导材料与器件技术领域，具体涉及一种可用于制备聚合物光波导器件的高含氟负性光刻胶组合物，其由高含氟环氧树脂、光致产酸物和有机溶剂组成。高含氟环氧树脂为一种或几种结构式如(1)所示的化合物，其中，Rf1和Rf2分别独立地表示全氟化、半氟化或者未氟化的脂族基团，n为5～20的整数，m为0～20的整数。通过改变光致产酸物的种类来调整光刻胶组合物的曝光波长，同时由于在氟化的环氧树脂中，部分氢原子被氟原子取代，在通讯波段吸收较小，因此该光刻胶组合物可以在紫外波长200～400nm的范围内曝光并成像制作聚合物光波导器件。
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